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パーク・システムズ・ジャパン、新オフィスを開所、AFMを核に研究・産業分野への提案力を強化

　パーク・システムズ・ジャパンは10月30日、新オフィス（東京都港区西新橋1-11-4）の移転開所式を開催し、顧客や関係者に新たな拠点を披露した。

移転開所式の鏡開きのようす
酒樽は末広がりの縁起の良い名から人気の「末廣」（醸造元：福島県会津若松市 末廣酒造）

　式典では、金 鍾得 パーク・システムズ・ジャパン社長が、物件探しから設計、工事、移転まで約2年をかけ、多くの関係者の協力を得て新オフィスを実現できたことへの謝意を表明。「皆様に気軽に立ち寄っていただき、測定や技術の相談ができる場にしていきたい」と述べ、社員一丸となって顧客の研究開発やモノづくりを支援する考えを示した。

挨拶する金氏

 

　新拠点の1階には、ガラス張りのクリーンルームを備えたデモルームを設置。研究用から半導体製造向けまで、同社のAFM（原子間力顕微鏡）を実機で確認できる。2階には執務エリアや大会議室、リフレッシュスペースを設けた。日本法人パーク・システムズ・ジャパンは2007年に設立され、現在は営業、マーケティング、技術、フィールドサービスなど、充実した体制で国内顧客を支える。

　パーク・システムズは、AFMの発明に関わったSang-il Park（パク・サンイル）博士が1988年に米国でAFMの商業化を目指す企業を創業し、1997年に韓国・水原（スウォン）で設立した。その後、韓国本社を中心に世界16拠点で事業を展開し、研究用AFMに加えて、半導体・ディスプレイ向けの産業用自動計測装置、薄膜評価用の分光エリプソメーター、白色干渉計、AFM-IR、デジタルホログラフィック顕微鏡、アクティブ除振システムなどへ製品領域を広げている。本年2026年には、韓国・果川（クァチョン）に新たなグローバル本社を開設し、イノベーションと協業、そしてナノメトロロジーの未来を切り拓く拠点としている。

　式典ではまた、パーク・システムズ・ジャパン営業部長の鈴木基純氏が、AFM市場で同社が4年連続で世界シェア首位を獲得していると説明。国内では日立製作所、TDK、TOPPAN、ソニー、HOYA、信越化学工業、SUMCO、キヤノンなど、海外ではIntel、TSMC、Samsungなどへの納入実績を紹介した。

挨拶する鈴木氏

 

　AFMは、先端をナノメートルスケールまで鋭くした探針を試料表面に沿って走査し、探針と試料の間に働く原子間力を検出することで、表面の三次元形状や物性を測定する装置。光学顕微鏡や走査電子顕微鏡（SEM）が主に像を観察するのに対し、AFMは表面をなぞるように測定するため、ナノスケールの凹凸や粗さを定量化できる。さらに、測定モードやプローブを使い分けることで、硬さ・弾性、粘弾性、電気特性、熱特性など、形状以外の物性評価にも対応する。材料科学、化学、ポリマー、ナノデバイス、ライフサイエンスなど幅広い研究分野で活用されている。
同社AFMの大きな特長が、XY方向とZ方向の走査機構を分離したスキャナー構造と、独自の「True Non-Contact™（完全非接触）」モードである。XYスキャナーにはフレクシャー機構を採用し、Z方向は電子制御で駆動することで、走査に伴う画像の歪みや軸間干渉を抑え、正確な三次元データの取得を目指す。また完全非接触モードでは、探針を試料に接触させず、原子間力の引力領域で生じる共振周波数などの変化を捉える。探針の摩耗や試料損傷を抑えられるため、柔らかい材料や微細構造を持つ試料でも、再現性の高い測定につなげられる。プローブ交換やレーザー位置合わせの自動化など、操作性の向上にも取り組んでいる。

　研究用途で培ったナノ計測技術は、半導体製造の現場にも広がる。半導体デバイスの微細化に伴い、ウェハー表面の粗さ、CMP（化学機械研磨）後の形状、微細トレンチ、欠陥などを高精度かつ再現性よく評価する必要性が高まっている。同社はウェハー計測向けの自動AFMや、フォトマスク上の欠陥を検出・修正・検証するフォトマスクリペアAFMを展開。ロボット搬送などを組み合わせた自動化により、研究室での精密測定にとどまらず、製造工程でのインライン計測や品質管理を支援する。ベルギーの半導体研究機関imecとは共同開発を継続しており、先端半導体技術の評価にも取り組む。

　来賓として挨拶に立った名古屋大学名誉教授の高井 治氏は、約30年前に大学でパーク社製AFMを導入した経験を振り返り、微細な位置合わせ精度がナノパターニング研究に有効だったと評価した。また、長年携わってきたエリプソメトリー技術にも触れ、パーク社が分光エリプソメーター分野を取り込んだことに技術的な縁を感じると述べた。薄膜の膜厚や屈折率を高精度に評価する光学計測と、表面形状・物性を捉えるAFMを組み合わせることで、材料やデバイスを多面的に理解できる。高井氏は、半導体の微細化や基板の大型化、高精度化を背景に、同社技術が今後さらに発展することへの期待を寄せた。

来賓の挨拶を行う高井氏

 

　パーク・システムズ・ジャパン営業部長の鈴木氏はまた、新オフィスのデモルームを「実際の装置を見て、測定や技術について相談できる場所」として紹介した。研究開発と量産現場の双方でナノスケールの評価ニーズが高まるなか、実機デモ、技術相談、導入後のサポートを一体で提供する国内拠点の役割は大きい。今回の移転を機に、パーク・システムズ・ジャパンはAFMを核とする計測技術と周辺ソリューションを通じ、先端研究から半導体産業まで、顧客の課題解決を後押ししていく。

デモルーム見学会のようす

 

開所式参加者の集合写真

 

kat 2026年11月2日 (月曜日)

ナノ科学シンポジウム2026が開催、表面・界面計測から材料・半導体分野の最新技術を展望

　「ナノ科学シンポジウム2026（Nano Scientific Symposium Japan 2026：NSSJ2026）」が10月29日、東京都文京区の東京大学 浅野キャンパス 武田ホールで開催され、約90名が参加した。主催はナノ科学シンポジウム実行委員会（実行委員長：高井 治氏（名古屋大学名誉教授、先端材料研究機構 代表理事、表面・超原子先端材料工学研究所　代表理事・所長）、副実行委員長：金 鍾得氏（パーク・システムズ・ジャパン社長）)で、協賛は表面技術協会、日本材料科学会、日本MRS、伊藤忠マシンテクノス、日本電子、後援はメカニカル・テック社、日刊工業新聞社、日本顕微鏡学会。

NSSJ2026参加者の集合写真

 

　2020年から走査型プローブ顕微鏡（SPM）ユーザーシンポジウムとして開催されてきた同シンポジウムは、前回より、SPMの幅広い応用と技術に焦点を当てるとともに、複合的な表面解析手法を用いた材料科学、半導体、ライフサイエンス分野の研究情報を共有・交換する場へと拡大している。

　材料・表面技術はさまざまな産業に不可欠で、近年求められる表面改質層の厚さはnmオーダーに達して、さらに微細化している。これに伴い、表面を計測・解析する手法も発展を続け、中でも、1982年に発表された走査型トンネル顕微鏡から発展したSPMは、原子を一つひとつ観察・解析できる技術として、ナノレベルの表面計測・解析を支える基礎技術の重要性を増している。

　今回のシンポジウムでは、MEMS技術、表面分析・解析技術、表面技術などの分野で活動する登壇者による講演を通じ、材料・表面技術とナノテクノロジーとの共創や、ナノテクノロジー支援の取り組みを発信することを目指した。

　当日はまず、高井 治 実行委員長が開会の挨拶に立ち、「本シンポジウムは、2020年12月に関東学院大学 関内メディアセンターにて第1回を開催して以来、東京大学等での開催を経て、今回で第7回目を迎える。メインスポンサーであるパーク・システムズ・ジャパンの長年にわたる多大なる支援に対する感謝したい。さて、SPMは1982年にIBMで発表され、真空を必要とせず大気中で原子1個1個を観察できる画期的な技術となり、その後、原子間力顕微鏡（AFM）やケルビンフォース顕微鏡（KFM）などへ進化し、現代の表面科学やナノ物性評価に不可欠な基盤となっている。私の研究室では、パーク・システムズ社が米国にあった初期に、日本国内2台目となる同社のAFMを導入、位置制御性と操作性が極めて優れ、他社製と比較しても使い勝手が良いことから、研究室で長年愛用するなど、パーク・システムズ社とは非常に縁が深い。本シンポジウムは、AFMや表面観察のみならず、表面科学全般、先端材料、半導体に関する最先端の研究成果を広く議論する場。また、講演会、ポスター発表ともに、活発な議論をお願いしたい。セッション終了後の懇親会にもご参加をいただき、交流を深めていただきたい」と述べた。

開会の挨拶を行う高井実行委員長

 

　「午前の部」では、4件の講演が行われ、最初に、東京大学の高井まどか氏が「双性イオンポリマーで創る抗汚染・抗菌表面」と題して講演。双性イオンポリマー膜が、細菌付着抑制、バイオフィルム形成抑制の機能を持つことを示した。

　続いて、東海光学の杉浦宗男氏が「高性能光学薄膜を支える表面・界面の重要性」をテーマに登壇し、各界面で反射・透過した光の多重干渉により機能が鰓エル光学薄膜フィルターなど高性能光学薄膜の性能向上において、基板表面・膜界面の状態を適切に評価し設計・製造に反映することが重要性だと総括した。
その後、日産アークの藤野渚彩氏が「全固体電池における劣化解析技術」について講演した。独自の大気非暴露切断／切削加工とⅩ線光電子分光法（XPS）による化学状態分析、走査型広がり抵抗顕微鏡法（SSRM）による微小領域の抵抗分布評価を組み合わせることで、硫化物系全固体電池のサイクル劣化の伴う正極層内の固体電解質の化学状態変化および微小領域の抵抗分布変化を評価できることを示した。

　さらに、産業技術総合研究所（AIST）の山岸裕史氏が「全固体電池内部のインピーダンス分布を可視化するAFM計測技術」を紹介。電気化学インピーダンス分光法（EIS）に対応した広い周波数範囲における走査型インピーダンス顕微鏡（SIM）測定を用いて、全固体電池内部のインピーダンス分布の可視化が可能であることを示した。

　「午後の部Ⅰ」では、2件の講演が行われ、最初に、大阪大学の森勇介氏が「GaN結晶が拓くグリーン・デジタル社会」と題して基調講演を実施。Naフラックス法、アモノサーマル法、OVPE法などの適用と産業界との共創によって窒化ガリウム（GaN）結晶の大口径化・高品質化・量産化に成功しつつあり、GaNの本来の能力をデバイスで引き出すことによってグリーン・デジタル社会の実現に貢献できるとした。

　続いて、東北大学の中川勝氏が「有型成形加工のナノインプリント技術が拓く半導体素子・人工光学素子」について講演。先端半導体素子の製造や人工光学素子メタオプティクスの開発、情報通信・光電融合への応用の検討が進む光ナノインプリントに関して、マイクロプリント－ナノインプリント工法、一桁ナノサイズの位置合わせ技術、人工反応場メタサイトなどの研究が紹介された。

　「午後の部Ⅱ」では、Park Systems（韓国）より2件の講演が行われた。まず、Byoung-Ho Lee氏が「Recent Trends in Semiconductor Device Technology and the Role of AFM」と題し、2Dデバイスから3Dデバイスへの移行が進む半導体デバイス技術の最近の動向と、半導体デバイス・プロセス開発における計測・検査（MI）技術において、プロファイリングおよびAFM技術の役割がますます重要になってきていると述べた。

　続いて、Charles Kim氏が「Introducing NX1: A Compact AFM for Atomic-Resolution Imaging」と題し、常温常圧下での原子格子の高解像度イメージング用に設計された小型AFM「NX1」を紹介。堅牢でコンパクトな構造と低熱膨張材料により機械的ノイズ・熱ドリフトを低減し安定した測定を実現。また、プローブの容易な交換、簡単なレーザーアライメントなどで使い勝手が向上していると説明した。

講演のようす

 

　一方、午後の部の講演が始まる前に20件のポスター発表が行われ、それぞれ活発な質疑応答がなされ、参加者全員による投票と採点がなされた。

ポスター発表のようす

 

　全講演終了後にはポスター発表の表彰式が行われ、最優秀賞には、東京工業高等専門学校の佐藤魁星氏による「周波数原子間力顕微鏡を用いたせん断場におけるイオン液体中固液界面構造と横力同時計測」が、優秀賞2件には、東北大学の山川好汰氏による「紫外線レーザーリソグラフィで作製したサブマイクロシリコン椀形のAFMイメージング」と日本大学の上田槙之介による「アモルファス炭素膜の成膜速度と価電子帯構造の温度依存」がそれぞれ選定され、表彰された。

ポスター発表 表彰式のようす：写真左からByoung-Ho Lee氏（Park Systems）、
金 鍾得氏（パーク・システムズ・ジャパン）、高井 治 実行委員長、
山川好汰氏（東北大学）、佐藤魁星氏（東京工業高等専門学校）、上田槙之介氏（日本大学）

 

　閉会式では、NSSスペシャルアドバイザーの柳内克昭氏が挨拶に立ち、長時間にわたる参加者の聴講に謝意を示すとともに、ポスター賞の優秀賞・最優秀賞を受賞した発表者を祝福した。また、多忙な中、遠方から参加した講師陣や、開催準備や運営に尽力したスタッフに感謝を述べた。全日程を滞りなく終えられたことへの安堵と関係各位への謝意を表明した。次回については、今回と同じ会場で同時期に開催する意向を示し、講演発表やポスター発表への積極的な挑戦を参加者に呼びかけた。
 

閉会の挨拶を行う柳内氏

 

kat 2026年11月2日 (月曜日)

メカニカル・サーフェス・テック2026年10月号：特集「DLC・ドライコーティングの最新技術動向」10月26日発行！

　表面改質＆表面試験・評価技術の情報誌「メカニカル・サーフェス・テック」の2026年10月号：特集「DLC・ドライコーティングの最新技術動向」が当社より10月26日に発行される。

　今回の特集では、DLCコーティング超硬合金の銅加工におけるトライボロジー特性、新産業に対応するドライコーティング技術、熱CVDの高アスペクト形状への適用、硬質PVD薄膜の特性と耐凝着性、薄膜・多層膜の高精度評価を取り上げ、コーティング技術の高度化と適用拡大に向けた最新動向を紹介する。

特集：DLC・ドライコーティングの最新技術動向

◇DLCコーティング超硬合金の銅加工におけるトライボロジー特性・・・ナノコート・ティーエス　熊谷 泰、坂下 武雄、今井 健雄

◇新産業の表面課題に応えるドライコーティング技術・・・東研サーモテック　髙橋 顕 氏に聞く

◇熱CVDコーティング技術と高アスペクト形状への適用・・・中日本炉工業　田中 隆太郎

◇硬質PVD薄膜の特徴とトライボロジー特性・・・ウメトク　後 裕介、南馬祐二、荻巣高志

◇自動車の薄膜・多層膜の高精度評価を支えるPERET研磨技術・・・パルメソ　松原 亨

クローズアップ「植物表面を改質するLEDライト技術と計測評価技術」

植物生育の光環境をつくる植物育成ライトと分光放射照度計による光環境の定量評価・・・トライテラス　石栗 宏一郎 氏、高良 未来 氏、コニカミノルタジャパン　西本 昌弘 氏に聞く

連載

トップインタビュー・・・日本パーカライジング　青山 雅之 氏、中山 隆臣 氏に聞く

酒飲み世界紀行：第17回 白酒と黄酒編：乾杯それとも干杯？・・・横浜国立大学　梅澤 修

トピックス

JASIS2026開催、表面試験・評価・分析機器などが展示

サーモテック2026とFoundry Tech+Expo2026が開催

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admin 2026年10月23日 (金曜日)

日本溶接協会、11月9日、12月7日にドライプロセスを中心とした表面処理技術セミナーの基礎編と応用編を開催

　日本溶接協会の表面改質技術研究委員会は11月9日および12月7日の両日、日本溶接協会 溶接会館 2階ホール（東京都千代田区神田佐久間町4-20）での対面開催とオンライン開催からなるハイブリッド方式により、「表面処理技術セミナー～ドライプロセスを中心に基礎から応用まで」を開催する。

　内容は、本委員会の主テーマであるプラズマ表面処理および溶射・コールドスプレーを初めとする厚膜創製技術、物理蒸着法（PVD）、化学蒸着法（CVD）、各種熱処理法（表面焼入れ、浸炭・浸炭窒化、窒化・軟窒化など）などを加えた表面処理技術全般を体系的に学ぶ基礎編を11月9日に、それら技術の発展的な応用形態を学ぶ応用編を12月７日に実施する。基礎編では、表面処理の理解に必要な基礎知識や代表的手法の比較整理を行う。応用編では基礎編の復習から始まり、DLC膜を含む各種表面処理技術の応用展開に関する知識を幅広く習得できる。

　表面処理を活用するものづくり技術者、金属系材料加工技術者、表面処理装置開発技術者などに適した内容となっている。

　申込期限は、基礎編が10月19日、応用編が11月16日で、以下のURLあるいはQRコードから申し込みができる。参加費はいずれも消費税込みで、表面改質委員会所属企業が8000円／日で、協会会員が13000円／日、後援団体会員が15000円／日、一般が18000円／日。

https://www-it.jwes.or.jp/seminar/　

後援団体

◆一般社団法人溶接学会 ◆一般社団法人日本溶射学会◆一般社団法人レーザ加工学会 ◆一般社団法人軽金属溶接協会◆一般社団法人日本機械学会 ◆一般社団法人粉体粉末冶金協会◆一般社団法人日本鉄鋼協会 ◆公益社団法人日本金属学会◆公益社団法人日本鋳造工学会 ◆一般社団法人表面技術協会◆一般社団法人日本熱処理技術協会 ◆公益社団法人日本セラミックス協会◆一般社団法人日本鍛造協会 ◆一般社団法人日本塗装技術協会◆一般社団法人日本防錆技術協会 ◆公益社団法人日本材料学会◆公益社団法人自動車技術会 ◆一般社団法人日本AM協会◆一般社団法人日本Additive Manufacturing学会◆一般社団法人摩擦接合技術協会◆一般社団法人日本3Dプリンティング産業技術協会

 

　基礎編、応用編の内容は、それぞれ以下のとおり。

11月9日　第1回基礎編

09:30-09:35「開会挨拶」表面改質技術研究委員会 委員長／信州大学 教授　榊 和彦 氏

09:35-10:25「表面処理とは（概論）・表面処理を理解するための基礎知識」仁平技術士事務所　仁平 宣弘 氏

10:25-11:15 「物理蒸着法（PVD）、化学蒸着法（CVD）」仁平技術士事務所　仁平 宣弘 氏

11:15-11:25 休憩（10 分）

11:25-12:15 「熱処理（表面焼入れ、浸炭および浸炭窒化、窒化および軟窒化）」仁平技術士事務所　仁平 宣弘 氏

12:15-13:15 昼食休憩（60 分）

13:15-14:05 「溶射（基礎編）」豊橋技術科学大学　福本 昌宏 氏

14:10-15:00 「エアロゾルデポジション法（基礎と応用）」産業技術総合研究所　篠田 健太郎 氏

15:00-15:10 休憩（10 分）

15:10-16:00 「プラズマによる表面処理（基礎編）」大阪大学　節原 裕一 氏

16:05-16:55 「主たる表面処理法の比較とまとめ」仁平技術士事務所　仁平 宣弘 氏

16:55-17:00 「閉会挨拶」表面改質技術研究委員会 幹事長／東京都立産業技術研究センター 理事　三尾 淳 氏

12月7日　第2回応用編

09:30-09:35「開会挨拶」表面改質技術研究委員会 委員長／信州大学 教授　榊 和彦 氏

09:35-10:25 「概論（主たる表面処理法の比較とまとめ（基礎編の復習兼ねる）」仁平技術士事務所 仁平 宣弘 氏

10:25-11:15 「PVD，CVD による硬質膜の摩擦摩耗特性と密着性評価法」仁平技術士事務所　仁平 宣弘 氏

11:15-11:25 休憩（10 分）

11:25-12:15 「DLC 膜応用編、PVDによるCr系膜の応用編」ナノコート・ティーエス　熊谷 泰 氏

12:15-13:15 昼食休憩（60 分）

13:15-14:05 「プラズマ窒化応用編、高周波焼入れ応用編」日本電子工業　大沼 一平 氏

14:10-15:00 「ガス窒化・ガス浸炭応用編(複合処理など)、プラズマCVDによるTi系膜応用編」オリエンタルエンヂニアリング　木立 徹 氏

15:00-15:10 休憩（10 分）

15:10-16:00 「プラズマによる表面処理（応用編）」大阪大学 節原 裕一 氏

16:05-16:55 「溶射（応用編）」エリコンジャパン　和田 哲義 氏

16:55-17:00 「閉会挨拶」表面改質技術研究委員会 幹事長／東京都立産業技術研究センター理事 三尾 淳 氏

 

admin 2026年10月15日 (木曜日)

メカニカル・サーフェス・テック主催講演会「モビリティにおけるトライボロジー・ドライコーティングの技術と適用 」

　当社編集部は11月13日、東京都丸の内で講演会「モビリティにおけるトライボロジー・ドライコーティングの技術と適用」を開催します。

　本講演会では、トライボロジー技術（摩擦・摩耗・潤滑技術）ならびにトライボロジー特性や装飾性など基材表面にさまざまな機能を付与できるドライコーティング技術のモビリティにおける適用について、第一線でご活躍の講師の方々にご講演をいただきます。トライボロジーおよびドライコーティングの新しい適用を模索すべく、交流会を含めて、皆さまのご参加をお待ちしております。

主催：株式会社メカニカル・テック社 『メカニカル・サーフェス・テック』編集部
開催日時：2026年11月13日（金）
講演会：13時～17時（開場：12時30分）
交流会：17時～19時
会場：TKPガーデンシティPREMIUM東京駅丸の内中央 （東京都千代田区丸の内1-9-1　丸の内中央ビル 12階）ホール12A
参加費用：37,950円（税込み、資料代、交流会参加費含む）

プログラム（予定） ※各講演後に質疑応答の時間を設けております
                        ※※都合により講師の方が変更になる場合があります。ご了承ください

・13：00～13：40　「AICEでの将来パワートレーン研究とトライボロジー」自動車用内燃機関技術研究組合（AICE） 研究部 専門技術者　村上 元一 氏

・13：45～14：25　「自動車におけるナノ膜コーティング技術の開発と適用展開」サクラ工業株式会社 先行開発課　高橋 尚久 氏（元ヤマハ発動機株式会社 材料技術部）

・14：30～15：00　表面改質関連の計測評価メーカーによるショートプレゼン①

・15:05～15：25　休憩

・15：25～15：55　表面改質関連の計測評価メーカーによるショートプレゼン②

・16：00～16：40　「自動車におけるDLCコーティングの技術、メカニズム解明と適用展開」マツダ株式会社 技術研究所 次世代環境技術研究部門　河口 健太郎 氏

・17：00～19：00　交流会

【お申し込み方法】
以下の受付フォームよりお申し込みください。

お申込みはこちらよりお願いいたします（googleフォーム）。　

問い合わせ先
株式会社メカニカル・テック社　TEL：03-5829-6597　E-Mail：info@mechanical-tech.jp

昨年の開催のもよう

 

admin 2026年10月13日 (火曜日)

パルメソ、断面強さ分布精密試験装置のフラッグシップモデルを発売開始

　パルメソは、100nm以下の超高分解能試験のニーズに合わせて開発された断面強さ分布の精密試験装置「MSE」のフラッグシップモデル「MSE-B401」の発売を開始した。数値制御を新たに採用することで高分解能を実現、試験条件も簡単に合わせることが可能。さらに、同じ試料内での多点計測と試験位置設定もカメラ機能で実現。超高分解能試験装置でありながら使い勝手の良い設計となっている。

MSE-B401

 

　フラッグシップモデルMSE-B401では、スタンダードモデルMSE-A203の①サブμmから数μmまで調整可能な深さ分解能、②1～250点まで設定可能な深さの試験点数、③設定回数まで完全自動のデータ取得動作、③平均粒径1～10μmの微粒子が選択・使用可能、④プロファイル重ね合わせ図・エロージョン進行グラフ・エロージョン率分布グラフなどの出力データ、⑤画面で3点セットをジャストインで表示確認可能といったデータの可視化、⑥複数の試験プログラムを保存可能といった特長を継承。

　MSE-B401ではさらに、①100nm以下の超薄膜・ナノ構造・界面の精密解析が可能、②数値制御とビデオキャプチャー機能により、誰でも簡単・確実な試験位置決めが可能、③最大9カ所の多点設定により、データ収集スピードと網羅性を劇的に向上、④8時間の連続投射で長時間試験が可能、⑤半自動洗浄システムの導入により、試験後の作業負担を大幅に軽減、⑥防振ユニット内蔵といった特長を加えている。

　パルメソでは、以下のようなニーズにMSE-B401推奨している。
・極薄膜・ナノ構造の限界に挑む研究者・技術者
・硬質コーティングや厚膜の「長寿命・耐久性」の精密予測
・「試験の属人化」や「設定の難しさ」の数値化を図りたい評価担当者
・マトリックス（母材）と複合材（欠陥などの内包）の強度を別々に評価したい
・次世代デバイスや半導体などの極薄膜の強度・界面解析

kat 2026年10月8日 (木曜日)

第17回　高機能素材Weekが開催、高機能素材の研究開発を支援する計測・試験評価機器が一堂に

　機能性フィルム・プラスチック・セルロース・炭素繊維複合材・金属・セラミックスなど、最先端の素材技術が一堂に集結する世界最大規模の展示会「第17回　高機能素材Week」が9月30日～10月2日、千葉市美浜区の幕張メッセで開催された。高機能フィルムやプラスチックの研究開発を支援する計測・試験評価機器では、以下などの出展がなされた。

会場のようす

 

　エー・アンド・デイ（https://www.aandd.co.jp/products/testmeasurement/test/test-friction/efm/）は、JIS K 7218（プラスチックの滑り摩耗試験方法）に適合したトライボロジー試験機（摩擦摩耗試験装置）「EFM-3シリーズ」を展示した。金属や樹脂、セラミックス、コーティング膜、潤滑油など各種材料のトライボロジー試験から、軸受、ブレーキ（摩擦材）、クラッチ（湿式摩擦材）など各種製品のトライボロジー試験まで、豊富な実績を有するEFM-3シリーズの特徴は、①リング、ディスク、ピンの各試験片に対応、②すべり速度範囲：0.001～1000cm/sec、摩擦力測定範囲：0.02～10N・m、③国産メーカーならではの、カスタマイズ可能なシステムへの発展性（計測・制御項目の追加など）。普及型の「EFM-3-G」、高耐久型の「EFM-3-H」、高速高トルク型の「EFM-3-1010」、高速高トルクワイド型の「EFM-3-1020」をラインアップ。EFMシリーズをはじめ各種摩擦摩耗試験機の回転数・加圧力制御と摩擦データの収集・解析を行える摩擦摩耗試験装置用データ処理アドオン「MSAT0009」のほか、計測ニーズに合わせたカスタマイズ対応システムとして、計測項目の追加に対応するための機器「AD4820オプションボード」なども紹介した。

エー・アンド・デイ　「EFM-3シリーズ」

 

　大塚電子（https://www.otsukael.jp/）は、インラインでのフィルムの全面膜厚検査が可能なラインスキャン膜厚計「LS series」と、インラインでのコーティング膜の膜厚評価が可能なインライン膜厚計「MCPD series」、透明フィルムの傷や異物を可視化・定量化できる光波動場三次元顕微鏡「MINUK」を紹介した。ラインスキャン膜厚計LS seriesの特徴は、①最大10m幅対応の抜けなしの全面（全幅・全長）測定、②1msecの高速測定、③光干渉法による高精度な膜厚測定、④0.1～300μmの広範な測定範囲。インライン膜厚計MCPD seriesの特徴は、①オプティカルファイバーを採用した自由な工学系、②光干渉法を用いた膜厚演算、③in-situでの膜厚管理が可能、④非接触・非破壊測定のためサンプルを傷つけない。光波動場三次元顕微鏡MINUKの特徴は、①透明体の可視化：nmオーダーの透明な異物・欠陥を評価、②非破壊・非接触・非侵襲での測定が可能、③フォーカス調整不要で2秒未満の高速測定、④700μm×700μmの広視野、深さ方向1400μmの三次元情報を1ショットで取得。

大塚電子　「LS series」と「MCPD series」、「MINUK」

 

　パルメソ（https://palmeso.co.jp/）は、熟練不要で誰でも変質なくスピーディーに分析試料の観察前処理ができる斜め研磨装置「PERET（ピーレット）研磨」を提示した。「nmレベルからμmレベルを誰でもできる研磨方法が欲しい」、「材料を変質せずに研磨したい」、「表面から深さ方向の観察がしたい」、「平面的でなく立体的な観察画像が欲しい」、「フィラーなどを浮き彫りにしたい」といった、薄膜化・多層化・フィラーなどの複合化が多岐に進化した先端材料分野での観察で必要な前処理加工に関する困りごとに対応する。PERET研磨装置は、材料表面への微粒子スラリーの高速投射でナノエロージョン（研磨）を発生させるが、投射量の設定で目的の深さまで誰でも簡単に研磨できる。すり鉢状研磨痕はその斜面が低角度で中央部の深い位置から両端に向かって浅くなり、観察機器にて表面から深さ方向の情報を同時に取得できる。また、エロージョンは微小領域の強度に応じた研磨量になり、フィラーなどを浮き彫りにして多くの情報量を提供できる。超薄膜、多層フィルム、微小部品、三次元形状など、さまざまな形状や形態の試料、セラミックス・金属・樹脂・ゴム、樹脂と金属の複合材料などあらゆる材料表面において変質を伴わないnm研磨を可能にしたことにより、XRD、ラマン分光、SEM、X線残留応力などの深さ方向分析が行える。

パルメソ　「PERET研磨装置」

 

　ブルカージャパン（https://www.bruker.com/ja/products-and-solutions/test-and-measurement.html）は、ベーシックなナノ機械的特性評価が可能な、コンパクト設計の卓上型ナノインデンテーションシステム「ハイジトロン TS 77 セレクト」を展示した。ナノ機械特性評価で最も利用頻度が高く、ベーシックな手法である定量的ナノインデンテーション試験、ナノ摩耗試験、In-Situ SPMイメージング技術、高解像度の機械的特性マッピング技術を有したエントリーモデルで、オプションとして動的ナノインデンテーション、ナノスクラッチの機能も取り揃えている。また、コンパクト・多機能・高性能を兼ね備えたトライボメーター「UMT TriboLab」を展示。モジュール交換型を採用し、あらゆる速度とトルクに対応、ほぼすべてのトライボロジー試験を可能にしているほか、幅広い環境下での幅広い試験に対応する。さらに、複雑なスクリプト言語や規則を学習する必要がない使い勝手の良い操作性を実現する。

ブルカージャパン　「ハイジトロン TS 77 セレクト」と「UMT TriboLab」

 

kat 2026年10月5日 (月曜日)

トライボコーティング技術研究会、令和8年度第2回研究会を開催

　トライボコーティング技術研究会（会長：理化学研究所 大森 整 主任研究員）は10月2日、東京都板橋区の板橋区立グリーンホールで「令和8年度 第2回研究会（第163回研究会）」をリアルおよびオンラインによるハイブリッド形式で開催した。今回は、「第54回:マイクロファブリケーション研究の最新動向」、「第24回オンデマンド・マイクロ合同シンポジウム」との同時開催で、また、「第13回板橋オプトフォーラム（IOF）」との同時開催となる。

開催のようす

 

　当日は、大森氏による趣旨説明の後、以下のタイトルで講演がなされた。

【特別セッション】
「横河電機の細胞イメージング技術と創薬の新たな可能性」横河電機　遠藤利朗氏、中西慶子氏

【基調講演】
「光でみる、光をみる－宇宙線観測最前線－」東京大学宇宙線研究所　荻尾彰一氏

　【トライボセッション】では以下のような内容で講演がなされた。

「最適加工のためのインプロセス計測技術の紹介」ナガセインテグレックス／大森素形材工学研究室　井村諒介氏…加工現象には外的要因も含め、加工の状態、工具の状態、材料の状態など多くの情報が含まれていることから、加工現象（加工状態）をインプロセスで計測することが加工の高精度化、高能率化に必要不可欠である。ここでは、インプロセス計測技術として、研削盤に搭載するスピンドル内部に設置した複数のセンサから研削加工中の主分力や背分力という研削抵抗、加工トルクを検出できるようにしたスピンドルユニット（NPX（NAGASE Processing X-formation）スピンドル）を紹介した。NPXスピンドルから得られる実加工中の摩擦係数や研削抵抗によって、砥石の切れ味の変化や加工状態がリアルタイムに検出できるようになった。また、原点センサに同期してカメラや照明のタイミングを制御し加工機上で回転した砥石の定点を全周にわたり撮影できる砥面観察装置「GRIDE EYE」によって、研削工程における砥石表面の状態の変化を確認できるようになり、実加工時の加工現象がよりリアルタイムに可視化できる可能性が出てきた。さらに、上記のシステムで実加工中のセンシングデータを取得して、その加工結果などをAI技術と組み合わせて活用することで、加工結果の予測や工具の状態が把握できる可能性が見えてきた、と総括した。

講演する井村氏

　また、【マイクロセッション】では以下のような内容で講演がなされた。

「ELID ラップ研削によるTi の鏡面研削における粗さ改善の試み」理化学研究所 大森素形材工学研究室　大森 整氏…チタン（Ti）は比強度が高く耐食性に優れるため航空機などの構造部材のほか、生体内に埋入するインプラント機器など幅広い適用がある。人工歯根や脊椎用インプラントにおいては、梨地状の凹凸を表面に形成することで骨芽細胞誘導による骨癒合に伴うアンカリング効果が得られることが報告されているが、ここでは冒頭、比較的粗粒度の砥石を用いたELID研削で積極的に研削痕を付与し、続いてCMP（化学機械研磨）を行い特徴的な周期的表面形状を創成することによって、細胞の付着・生育が促進されたケースを紹介。一方で、Tiを鏡面仕上げするニーズが存在することから、簡便な方法で鏡面仕上げが可能な方法として知見のある、異なる材料の同時研削による加工面粗さの改善を、ELIDラップ研削を用いて試みた。Tiと４種のセラミックス（SiC、Si3N4、ZrO2、Al2O3）を同心状、非同心状（碁盤状）にそれぞれ配置し、ELIDラップ研削で同時加工を行った結果、同心状の配置では、外側にAl2O3を、内側にTiを配置した組み合わせで同時加工した場合に、Tiを単体で加工した場合に比べてTiの加工面粗さが著しく改善した。非同心状にTiと各種セラミックスを配置した場合は、いずれも、Tiを単体で加工した場合に比べ、Tiの加工面粗さが著しく改善した。メカニズムとして、セラミックスはTiより研削が難しく、砥石の研削時の反力（切削抵抗）の多くはセラミックスと砥石との接触部分で発生することが想定され、これによって砥石とTiとの接触にかかる力がより小さくなり、Tiの単位時間当たりの除去量はセラミックスが想定、このことと、高湿なセラミックスの部分を研削する際に砥粒摩耗が進行して砥粒先端部の平坦化が進行することからも、Ti部の研削面粗さは単独での研削時よりも改善することが想定される、と考察した。

講演する大森氏

 

　講演終了後は「IOF（板橋オプトフォーラム） Award企業展示・大学研究室ポスター発表奨励賞表彰式」が開催され、企業展示3件とポスター発表2件が表彰され、トライボ関連では、Award企業展示の最優秀賞にナガセインテグレックスが選ばれた。

IOF Award企業展示の最優秀賞を受賞したナガセインテグレックスの板津武志氏

 

kat 2026年10月3日 (土曜日)

サーモテック2026とFoundry Tech+Expo2026が開催

　工業炉・関連機器の展示会「サーモテック2026」と鋳造関連製品・サービスの専門展示会「Foundry Tech+Expo2026」が9月9日～11日の三日間、東京ビッグサイトで開催された。サーモテック2026が出展社数185社で来場者数11246名、Foundry Tech+Expo2026が出展社数120社で来場者数6926名となった。

　ジェイテクトサーモシステム（ https://www.jtekt-thermos.co.jp/）は、熱処理分野において技術者不足や品質高度化・安定化、開発期間短縮への対応が求められる中で設備提供からプロセス全体の最適化を図るソリューション提案への転換が進んでいる課題に対し、ソリューションプロバイダーを目指す同社のCAE、AI、IoT活用による「熱処理DX」の事例として、状態監視による定量的な劣化データ取得により故障予兆をとらえ計画保全につなげる工業炉向け故障予兆検知システム「K-Predis」を紹介した。熱処理炉のライフサイクルコスト（LCC）削減と突発停止の回避を実現するとともに、製造時の省エネ・CO2排出量削減に寄与できる。

ジェイテクトサーモシステムのブース

　新東工業（ https://www.sinto.co.jp/ ）は、鋳物づくりの品質・生産性向上と環境負荷低減を両立するデジタルソリューションを紹介した。設備ごとの消費電力を「見える化」する「電力計測パッケージ by C-BOX®」は、既設設備にも導入しやすく、無駄な電力使用や設備異常の把握から省エネ改善につなげる。油圧式からの置換で消費電力・CO₂排出量を約70％削減できるケースがある電動シリンダも訴求。さらに、生砂特性自動計測、遠隔モニタリング、砂型3Dプリンタなどを組み合わせ、品質不良や保全ロスを抑えながら、持続可能で働きやすい鋳造工場づくりを提案した。

新東工業のブース

　中外炉工業（ https://www.chugai.co.jp/ ）は、水素・アンモニアなど次世代燃料への対応と省エネルギーを軸に各種燃焼技術を披露した。空気燃焼から酸素燃焼まで酸素濃度を任意に設定できる「オキシフレックスバーナ」は、排ガス量低減や高効率化に寄与。炉内O₂濃度をフィードバックして空気比を最適化する「ラムダリンク」、水素・LNG兼用バーナ、自動空気比制御装置「EBC³」なども紹介した。既設炉の省エネから燃料転換まで段階的な脱炭素化を提案するとともに、水素燃焼金属加熱実証炉への採用実績も示し、カーボンニュートラル対応を燃焼・制御の両面から訴求した。

中外炉工業のブース

　DOWAサーモテック（ https://www.dowa.co.jp/thermo-tech ）は、コンピュータによる各炉の操業の全自動運転を可能にするなど工場管理をFA化しているほか、使用条件が過酷化する部品・金型などに対し寿命を大幅に向上させる特殊表面処理（PVDコーティング、DLCコーティング、TDプロセス、コーベットプロセス、スル・スルフプロセスなど）、さらに材料の強度を大幅に向上させることにより部品の小型・軽量化を可能にした画期的な金属表面加工（ショットピーニングなど）の実用化を積極的に進め、ユーザーの問題解決とカーボンニュートラル実現に寄与していることをアピールした。

DOWAサーモテックのブース

　ナイトレックス・メタル日本支店（ https://www.nitrex.com/ ）は、窒化・軟窒化炉のターンキーシステムとプロセス自動化技術を紹介した。バッチ炉NX／NXK、連続炉NXLなどを用途に応じて展開し、NITREG®による窒化ポテンシャル制御で処理の再現性と品質安定化を図る。環境面では、排ガス中の残留アンモニアを処理しNOx排出を抑える中和装置「INS／INシリーズ」を用意。さらに断熱材による熱損失・エネルギー消費の低減など、ガス利用効率、炉の自動化、排ガス処理を組み合わせた低環境負荷型の熱処理システムを訴求した。遠隔診断やデータ記録にも対応し、設備運用の効率化も支援する。

ナイトレックス・メタル日本支店のブース

　中日本炉工業（https://nakanihon-ro.co.jp/）は、真空熱処理炉をはじめ、電気炉や燃焼炉など各種工業炉の設計製作からアフターメンテナンスまで一貫して行う工業炉専門メーカーであることや、社内に熱処理技術部を有し自社製炉を用いて熱処理およびCVDコーティングの受託加工も行っており、実際に設備を使用する側の立場でもノウハウを有していることをアピール。加圧冷却式真空熱処理炉「NVFシリーズ」について、高性能断熱材の採用により約7%の省エネ化を実現する省エネ仕様オプションを設定したことなどを紹介した。

中日本炉工業のブース

　ニッチュー（ https://www.blast.co.jp/ ）は、鋳造・ダイカスト製品向けのハンガー・インデックス式ショットブラストマシン「HBF-153X」と「HBNF-156」を紹介した。HBF-153Xは4室、HBNF-156は2室のインデックス構造を採用し、ワーク着脱中も別室でブラスト処理を行うことで待ち時間を抑制。ハンガー治具の利用で製品同士の衝突や打痕を避けつつ、バリ取り、砂落とし、スケールはく離、梨地加工などに対応する。粉じんリスクを伴う用途には適切な集塵・安全対策も提案。同社が掲げる資源再利用、省エネ機械開発の方針と合わせ、生産性と安全・環境配慮の両立を訴求した。

ニッチューのブース

　パーカー熱処理工業（https://pnk.co.jp/）は、バッチ型低圧浸炭炉「ICBP ECO」を紹介した。加熱セルと焼入れセルで構成された、ダブルチャンバー構成のバッチ型低圧浸炭炉で、従来のガス浸炭炉からの置き換えにも対応する。変成ガス発生装置を必要とせず、フレームカーテンも使用しないため、安全性の高い運用が可能なほか、加熱セルには水冷ジャケット構造を採用しており、炉体からの放熱を抑える。エネルギー消費の最適化とサイクルタイムの短縮により、効率的な熱処理を実現。さらに、低圧浸炭ならではの安定した処理により、冶金品質の向上も期待できる。
 

パーカー熱処理工業のブース

　山本科学工具研究社（ https://www.ystl.jp/ ）は、硬さ試験機の日常管理・間接検証に用いるJIS・ISO準拠の高精度「硬さ基準片」を紹介した。同社は「硬さばらつきゼロ」を追究する専門メーカーで、ロックウェル、ビッカース、マイクロビッカース、ブリネル、ショア、ナノインデンテーションなど幅広い硬さ試験に対応する。2026年2月制定の微小球反発硬さ試験方法JIS B 7743に対応するHNMシリーズも展開。熱処理後の品質保証では硬さ測定の再現性確保が不可欠であり、標準片による測定系の健全性確認という基盤技術を訴求した。顕微鏡組織標準片やシャルピー衝撃基準片などもラインアップする。

山本科学工具研究社のブース

 

admin 2026年10月1日 (木曜日)

三洋貿易、薄膜の機械的物性評価技術をテーマに、ユーザーズミーティングを開催

　三洋貿易は9月15日、東京都葛飾区の東京理科大学 葛飾キャンパスで、ユーザーズミーティング「実践講座 機能性薄膜の機械的物性評価技術」を開催した。

　まず第一部として、東京理科大学 教授で日本トライボロジー学会 会長の佐々木信也氏による座学「レーザ励起表面弾性波法による薄膜のヤング率測定」が行われた。

　薄膜のヤング率測定では、圧子の押込み荷重を除荷した時の荷重‐変異曲線からヤング率を求めるナノインデンテーション法（ISO 14577）が一般的だが、例えば膜厚100nmの薄膜を測定する場合、母材の影響を排除するため圧子押込み深さは経験則より膜厚の1/10以下である10nm程度としなければならない。しかし、このような微小領域の圧子先端形状を精密に把握することは難しいため、圧子形状に依存するヤング率測定には自ずと限界がある。

　ここでは、こうしたナノインデンテーションによる測定値を補償する手法の一つとして、ドイツのフラウンホーファー研究所IWS（材料・ビーム技術研究所）のD.Schneider博士らによって確立されたレーザ励起弾性波法について解説。レーザ励起弾性波法は短パルスレーザを表面に照射することで弾性波を誘起し、その分散挙動から表面近傍のヤング率を求める非破壊測定方法である。数nmオーダーの薄膜でも測定が可能、測定時間が短く繰り返し精度が高いほか、ヤング率測定だけでなく表面損傷状態の評価にも利用できる。本座学では、レーザ励起弾性波法の基本的な測定原理とレーザ励起弾性波測定システム「LAwave」の概略を説明しつつ、水素フリーDLC膜の品質管理や（ナノインデンテーション法では評価が難しい）多孔質な溶射被膜の欠陥測定といった薄膜の測定例をもとに、その特徴を紹介した。

佐々木信也氏による座学のようす

 

　続いて第二部として、佐々木研究室が保有するLAwave装置を用いてSi基板上に成膜した膜厚80nmのDLC薄膜のヤング率などを測定するデモンストレーションが行われた。

デモ測定のようす

 

　その後、具体事例に基づく評価方法・改善対策などに関する個別相談会・情報交換会が活発に催された。

kat 2026年9月30日 (水曜日)

東京理科大学・佐々木研究室、第47回トライボサロンを開催

　東京理科大学・佐々木研究室（主宰：佐々木信也 教授）が主催する「トライボサロン」（https://www.tribo-concierge.com/topics/296/）の第47回目が9月26日、東京都葛飾区の同大学 葛飾キャンパスにてオンサイト開催された。

第47回トライボサロンのようす

　トライボサロンは、トライボロジーに関係する情報・意見交換の場として、毎月1回のペースで開催されている。もともとは佐々木研究室の博士課程学生の勉強会として発足し研究成果の発表や最新の研究動向などに関する意見や情報交換を重ねてきたが、2022年9月からは佐々木研究室のメンバーに限らず広く参加の戸を開き、関係者のネットワーク作りも目的の一つとして活動している。

　第47回目となる今回のトライボサロンでは、ジェイテクトの獅子原祐樹氏が「アコースティックエミッションセンシング（AE）で捉える潤滑状態と損傷予兆」と題して話題提供を行った。

　機械設備の重大な故障に直結する転がり軸受や歯車しゅう動部の潤滑不足に伴う固体接触を損傷に至る前に捉える「潤滑状態検知手法」として、「AEセンシング」に着目。摩擦面の微視的な接触・変形に高感度なAEセンシングの損傷予兆検知における有用性について、すべり・転がり試験、歯車試験、軸受試験の結果とAE信号振幅の変化とを相関させながら紹介した。AE信号振幅による接触状態変化の高感度検知と周波数特性による摩擦面現象識別の可能性を強調した。

　トライボサロンに関心のある方は、以下のURLを参照されたい。
　https://www.tribo-concierge.com/topics/296/

admin 2026年9月29日 (火曜日)

JAST、トライボロジー会議 2026 秋 名古屋を開催

　日本トライボロジー学会（JAST）は9月9日～11日、名古屋市天白区の名城大学 天白キャンパスで、「トライボロジー会議 2026 秋 名古屋」（実行委員長：名城大学・宇佐美初彦氏）を開催した。会期中は約700名が参加した。

会場となった名城大学

　今回は、「減少・理論」、「摩耗」、「潤滑剤」、「摩擦材料」、「流体潤滑」、「摩擦」、「シミュレーション」、「メンテナンス」、「機械要素」、「マイクロ・ナノメカニズム」、「表面処理・コーティング」、「境界潤滑」、「分析・評価・試験方法」、「表面・接触」のテーマによる一般講演と、「学生・若手ポスターセッション」、「自動車に関わる最新のトライボロジー技術」、「スポーツにおけるトライボロジー」、「摩擦下における白層形成に関する研究動向」、「ヤングトライボロジストシンポジウム」のテーマによるシンポジウムセッションで、約270件の発表がなされた。

研究発表のようす学生・若手ポスターセッションのようす

　また、10日には特別講演会が開催され、海洋研究開発機構 高知コア研究所　上席研究員の伊藤元雄氏が、「小惑星リュウグウ試料のナノ解析プラットフォーム：大気非曝露キュレーションから高度分析への挑戦」と題して、講演を行った。

特別講演会のようす

　同日に開催された「懇親会」ではまずトライボロジー会議2026秋 名古屋 実行委員長の宇佐美初彦氏（名城大学）が挨拶に立ち、準備日9月8日の記録的豪雨（24年前の東海豪雨を超える雨量・線状降水帯）の中、学生アルバイトやスタッフ、さらには宇佐美氏自らが合羽を着用し、ブルーシートで展示物の水素エンジン車を覆って、展示物を濡らすことなく一致団結して搬入したエピソードを紹介しつつ、関係各位への謝意を表明。「ご当地名古屋のお酒や名古屋めしを堪能してほしい」と呼びかけた。

挨拶する宇佐美実行委員長

　続いて主催者であるJASTを代表して佐々木信也JAST会長（東京理科大学）が、学会70周年を終え71期目を迎えた節目において、若手・学生を交えたポスターセッションの導入成果や、企業と学会の連携推進について言及。「本懇親会では、企業の期待として最も重要な人脈づくりを進めていただき、宇佐美先生こだわりの料理とお酒を楽しみながら、名刺交換や学術以外の交流を深めてほしい」と挨拶した。

挨拶する佐々木会長

　さらに、名城大学 学長の野口光宣氏が来賓挨拶に立ち、名城大学での大会開催が1993年、2008年に続く3回目であることへの謝意を表し、本年迎えた名城大学の開学100周年の歩みと、中部地区最大規模（10学部・10研究科・学生1.5万人・卒業生22万人）という現況を紹介。将来ビジョン『中部から世界へ　創造的実学』と、摩擦・摩耗・潤滑を探求し省エネや省資源など社会課題解決に寄与するトライボロジーの精神との深い共鳴を語り、大会の成功と参加者の飛躍を祈念した。

挨拶する野口氏

　懇親会ではまた、本年11月6日～8日に台湾で開催される「第8回 日台トライボロジーシンポジウム」や、2027年3月3日～5日に東京理科大学 葛飾キャンパスで開催される「トライボロジー会議2027 春 東京」、2027年9月19日～24日にアクリエひめじで開催される「International Tribology Conference Himeji 2027」、2028年9月12日～15日に富山県立大学 射水キャンパスで開催される「トライボロジー会議2028 秋 富山」について、それぞれアナウンスがなされた。

第8回日台トライボロジーシンポジウムについてアナウンスする九州大学・澤江義則氏

　会期中は「企業技術・製品展示コーナー」が設けられたほか、出展企業数社による製品PRやサービスについての企業プレゼンテーション（ランチョンセミナー）が実施された。

企業技術・製品展示コーナーのようす水素エンジン車の展示

 

admin 2026年9月29日 (火曜日)

10/29に「ナノ科学シンポジウム2026」が開催、参加およびポスター発表を募集

　走査型プローブ顕微鏡（SPM）の幅広い応用と技術に焦点を当てつつ、複合的に表面解析手法を用いた材料科学、半導体およびライフサイエンス分野の最先端の研究情報を共有・交換するシンポジウム「ナノ科学シンポジウム（NanoScientific Symposium Japan 2026 : NSSJ2026）」（https://nanoscientific.org/nss_japan/main）が10月29日10時～17時30分に、東京大学 浅野キャンパス 武田ホール（東京都文京区弥生2-11-16）で開催される。主催はナノ科学シンポジウム実行委員会（実行委員長：高井 治氏（名古屋大学名誉教授、先端材料研究機構 代表理事、表面・超原子先端材料工学研究所　代表理事・所長）)、後援はパーク・システムズ・ジャパンとメカニカル・テック社。

　NSSJ2026では現在、一般の参加申込と、ポスター発表の参加申込（提出期限：10月9日）を募集している。参加費は無料。

　一般の参加申込はこちらから。

　材料・表面技術はさまざまな産業において必要不可欠な技術となっている。今日求められる表面改質・表面処理層の厚さはナノメートルオーダーに達し、さらに微細化が進んでおり、その表面を計測・解析する手法も各種発展し続けている。特に、1982年に発表された走査型トンネル顕微鏡（STM）から発展した走査型プローブ顕微鏡（SPM）では、原子1個1個を観察・解析することが可能になり、ナノレベルでの表面計測・解析の基礎技術としての重要性が日々増している。

　ナノ科学シンポジウムは、2020年からSPMユーザーシンポジウムとして開催してきたが、SPMの幅広い応用と技術に焦点を当てつつ、複合的に表面解析手法を用いた材料科学、半導体およびライフサイエンス分野の最先端の研究情報を共有・交換するシンポジウムへと拡大している。

　MEMS技術、表面分析・解析技術、表面技術など多様な分野の第一線で活躍している登壇者による講演やポスターセッションを通じて、材料・表面技術とナノテクノロジーとの共創を明らかにするとともに、ナノテクノロジー支援の取り組みを発信する。

　ナノ科学シンポジウム2026の講演タイトルと登壇者は以下のとおり。

・Keynote Speech「GaN結晶が拓くグリーン・デジタル社会」

　森 勇介氏（大阪大学 大学院工学研究科 電気電子情報通信工学専攻 教授）

・Invited Talk「双性イオンポリマーで創る抗汚染・抗菌表面」

　高井まどか氏 （東京大学大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻　教授 マテリアル工学科兼担）

・Invited Talk「有型成形加工のナノインプリント技術が拓く半導体素子・人工光学素子」

　中川 勝氏（東北大学多元物質科学研究所　光機能材料化学研究分野　教授）

・Invited Talk「全固体電池における劣化解析技術」

　藤野渚彩氏（日産アーク）

・Invited Talk「全固体電池内部のインピーダンス分布を可視化するAFM計測技術」

　山岸裕史氏（産業技術総合研究所 電池技術研究部門 主任研究員）

　NSSJ2026ではまた、ポスターセッションを実施。SPMコミュニティで国際的に著名な教授陣や専門家の前で、自身の研究内容・成果を発表し議論することができるほか、『NANOscientific Magazine』やSPM企業Park Systemsの資料に掲載され、発表者の研究の影響力を高めるチャンスとなる。受賞した研究にはさらに、以下の賞金が贈られる。
 
・1名 - 最優秀賞 5万円 

・2名 - 優秀賞 3万円

　ポスター発表の申込期限は10月9日で、以下のQRコードから申し込みできる。

　問い合わせ先は、以下のとおり。

　ナノ科学シンポジウム事務局
　NSSJ@parksystems.com

kat 2026年9月17日 (木曜日)

光触媒工業会、創立20周年記念祝賀会を開催

　光触媒工業会（PIAJ）は6月29日、東京都港区の品川プリンスホテルメインタワーで、「創立20周年記念祝賀会」を開催した。

　冒頭、挨拶に立った吉本昇司会長（TOTO）は、「次の10年、20年に向けて、本会を発展させ、光触媒の技術をさらに、暮らしをやさしく包む快適空間を作り出す次世代技術の柱へと進めいきたい。当工業会は2006年、日本発の光触媒の技術を社会に喧伝・普及させる、そして光触媒の市場を創出する目的で創立された。活動の核は常に消費者視点であることで、安全を守るために信頼の証であるPIAJマークを認証制度として確立、試験方法に基づいた客観的な性能評価を行ってきた。この品質第一という姿勢によって、空気浄化、セルフクリーニング、抗菌・抗ウイルスという光触媒の確かな価値を提供して、その市場は住宅から公共用途に至るまで、暮らしの安全を支える社会インフラにまで成長したと考えている。会員企業各位の尽力の賜物と考えている。次の20年に向けたキーワードをいろいろと考えているが、工業会のステージを上げるべく、「世界へ」ということを念頭に置いて、次の10年に向けて活動を進めていく。これからのあるべき姿の第一は、日本の快適空間を出発点にして、それを支える次世代の技術が持続可能な未来の創造に貢献していくことが挙げられる。二つ目は、日本が発見した光触媒技術を、規格の面を含めて工業会主導で広めていくことで、すでに工業会ではアジアの国々と相互認証に向けたMRA協定（相互承認協定）を締結し動き始めている。今後、こうした活動の強化を視野に入れて、さらにパートナーシップを強めていきたい。光触媒を選ぶための信頼性の高い共通の物差しとして、安全性に関する規格作りも工業会の大きな使命と考えている。常に消費者視線で、消費者の信頼に応えることを忘れることなく、関連団体各位とこれまで以上に熱意をもって、コミュニケーションを図りつつ、光触媒という素晴らしい技術の価値を社会に伝えていきたい。これからも光触媒は、“日本発の技術で、よりよい未来を創る（日本発の光触媒による「美観維持」、「環境浄化」、「清潔な空間」の提供により、美しく安心な日本の街づくりに貢献していく）”のスローガンのとおり、今後も持続可能で美しい地球の未来に貢献していきたい。関係各位のご尽力で工業会が発展し、工業会の発展が社会貢献につながる。次の10年、20年に向けて工業会活動を進めるべく、関係各位の引き続きのご協力をお願いしたい」と呼びかけた。

挨拶する吉本会長

 

　また来賓の挨拶に立った経済産業省 製造産業局 素材産業課 革新素材室の山田純市氏が「20年間の光触媒工業会の活動が、業界の健全な発展のみならず、我が国経済や社会の発展にも大きく貢献したことに感謝したい。不確実な国際情勢の中、高市政権では危機管理投資、成長投資を柱に、強い経済の実現を目指している。成長戦略ではAI、半導体、エネルギー、GXなど17の戦略分野を中心に大胆な設備投資や研究開発の促進など、官民の積極的な投資を引き出していく。皆様方と一緒に強靭で力強い経済の実現に取り組んでいきたい。光触媒製品は建物の内外装、土木資材、日用品の製造など、幅広い分野で活用され、我々の生活を支える重要な技術であり、その幅広い役割ゆえに昨今の国際情勢が業界に与える影響は決して小さくないと認識している。この20年間で社会は大きく変化し、工業会としてもさまざまな局面に直面してきたことと思う。そうした中でも工業会会員企業が結束して光触媒技術の普及としてPIAJマークによる業界独自の製品認証、抗菌・抗ウイルス性試験方法の標準規格、安全性評価への対応などを通して課題解決や価値創出に取り組んできたことに敬意を表したい。経産省としてもイノベーションの創出や国際標準化、市場形成に向けた取り組みなどを通じて、工業会と連携しながら光触媒業界のために尽力していきたい」と述べた。

挨拶する山田氏

 

　光触媒技術の発見者である藤嶋 昭氏（東京理科大学栄誉教授、東京大学特別栄誉教授が来賓の挨拶に立ち、「1966年に私が酸化チタンの単結晶を使った光触媒技術によって水の分解を実現して、ちょうど今年で60年を迎える。橋本和仁先生と二人で協力しながら、例えばTOTOと一緒に製品化を進めるなど、光触媒技術の開発と普及に向けた取り組みに腐心してきた。特に、光触媒の超親水効果を見つけて特許を確立する時などには苦労したが、多くの方々に光触媒を利用していただき、特にセルフクリーニングとして利用していただく基盤を作った。光触媒の試験方法の標準化、JIS化、さらにはISO化を進め、その後、当工業会が設立され、ますます光触媒製品がJIS、ISOに即してきちんと作られるようになり、世の中に役立つものとなっていることは、本当に喜ばしい。これからもさらにさまざまな光触媒製品が登場して、世の中に役立っていただけることを祈念している。ISO化をベースに、日本国内だけでなく世界で光触媒製品が利用されることを期待している。自分自身も今なお光触媒の研究を進めており、光触媒によって水をきれいにして、半導体洗浄用の超純水を作れる段階にきている。極めて高純度の水を光触媒で作ることができるという特許も出願し受理されている。このように光触媒はいろいろな分野でもっともっと使っていただける可能性がある。TOTOをはじめとする企業のご助力で製品化し光触媒が多くの人に役立つ技術となっていることは非常にうれしい。光触媒技術の応用拡大と普及推進に努める当工業会の一層の発展を祈念している」と述べた。

 

　続いて科学技術振興機構理事長で内閣官房 科学技術顧問の橋本和仁氏が、「1996年に本格的な光触媒製品として、TOTOの超親水性光触媒タイルが製品化された。遡って1990年ごろに藤嶋教授の研究室に講師として呼んでいただき、それまでの光触媒研究のほとんどが、水を分解して酸素と水素を得る光触媒の研究だったのに代わって、光触媒で汚れを落とす、抗菌性を持たせるといった研究が始まり、その流れで超純水を得る光触媒の研究も始まった。最近の新聞紙上では、光触媒と言うと水素活用のための技術と騒がれているが、実はこれは光触媒研究の始まりで、先ほど藤嶋先生がおっしゃられた、1972年にNature誌に発表された「本多・藤嶋効果」と呼ばれる酸化チタンに光を当てて水を分解する現象をさす。光触媒研究の違う道を作ったのが、1990年ごろの光触媒で汚れを落とす研究で、当工業会はほとんどがその研究を基盤にしている。1995年に科学技術基本法ができるまでの当時は、大学の人間が企業と一緒になって製品開発のための研究をするなんて許せないという雰囲気の時代だったが、それよりも前にTOTOと光触媒の抗菌研究で共同研究を始めた。藤嶋先生は現役で光触媒研究を続けている一方、私自身は10年前に光触媒の研究をリタイアして科学技術政策を見るようになったが、我々のやった光触媒研究が皆様に支えられて社会実装されていることは大変ありがたい。今後はぜひ、世界を目指した製品技術にしていただきたい。光触媒は最初から世界を目指していたが、我々の力量不足でうまくいかなかった。普通にやったら同じように失敗するだろう。その時になぜ失敗したのか、どこがうまくいかなかったのかという我々の数多くのノウハウが残っている。現在、世界が日本を求めており、ここ2、3年でその傾向が急激に強まっている。欧州、カナダ、インド、アセアンなどが日本に対して大きな期待感を抱いている。こうした中でぜひ、国際協力をしながら光触媒を広めていただきたい。私自身は科学技術政策を進める立場なので、取り組みを後押しできればと思う。当工業会が20年を迎えたことを喜ばしく思うとともに、今後の20年の工業会の活躍にも大いに期待しつつ、引き続き応援していきたい」と語った。

挨拶する橋本氏

 

　最後に、乾杯の挨拶に立った野間 賢副会長（積水ハウス）は、「藤嶋先生、橋本先生から、光触媒が大変な苦労があって発展したという話を聞いたが、当社もその苦労があって発展した光触媒に携わっていることを幸せに感じている。この祝賀会において、発展のためにご尽力されてきた皆様方にはぜひ、これまでの苦労話や、これからの20年への先を目指した会話をしていただいて、当工業会をより盛り上げていただきたい。本日はどんどんとコミュニケーションを図っていただければ幸いである。光触媒産業、ならびに光触媒工業会、関係各位のますますの発展を祈念したい」と高らかに杯を掲げた。
 

乾杯の挨拶を行う野間氏

 

kat 2026年9月7日 (月曜日)

JASIS2026開催、表面試験・評価・分析機器などが展示

　日本分析機器工業会と日本科学機器協会は9月2日～4日、千葉市美浜区の幕張メッセ 国際展示場で、分析機器・科学機器の総合展示会「JASIS2026」を開催、443社／1287小間の出展があり、22926名が来場した。表面試験・評価機器関連では以下のような展示があった。

JASIS2026のもよう

　アントンパール・ジャパンは（https://www.anton-paar.com/jp-jp/）、ナノインデンテーションテスタ「Hit 300」を展示した。研究開発や生産管理など多様なユーザー・環境を想定して作られた、プレミアムながらリーズナブルなナノ硬さ試験機で、直感的に操作できる自動化によって、作業者が不在の時でも1時間に600回の測定が可能。アクティブな防振ダンピングが、あらゆる環境下での精度を保証しているほか、独自の2レーザーターゲティングシステムにより、1 mm以内の精度でサンプルをターゲティングできる。機能性重視の設計によりセットアップに要する時間は15分、トレーニングから最初の測定結果まで要する時間は1時間。

アントンパール・ジャパン「Hit 300」

　オックスフォード・インストゥルメンツ（https://nanoindentation.oxinst.jp/）は、マイクロおよびナノスケールで材料の機械的およびトライボロジー的特性を正確に定量できる世界最高分解能のナノインデンター「i04 Femto-Indenter」を披露した。2024年に買収したFemtoTools が特許を取得したマイクロエレクトロメカニカルシステム (MEMS) 技術を採用しているほか、20年以上にわたる革新の成果を生かした極めて高い分解能、再現性、動的安定性を実現。金属、セラミック、薄膜、コーティング、およびメタマテリアルなど、より順応性の高い微細構造物の機械的試験に最適化されている。

オックスフォード・インストゥルメンツ「i04 Femto-Indenter」

　大塚電子（https://www.otsukael.jp/）は、光波動場三次元顕微鏡「MINUK」を展示した。観察・測定対象（フィルムやガラスなどの透明材料）から生じる光の波の情報全てを指す“光波動場”を、結像素子を介さずに波面センサに記録して、任意の面の像を計算処理で生成する。非破壊・非接触・非侵襲での測定が可能で、nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能。視野700μm×700μm、深さ方向1400μmの三次元情報を対象にフォーカスを合わせることなく2秒未満（標準）の高速で取得できるほか、任意の面を高速でスキャンし測定位置の決定がしやすい。

大塚電子「MINUK」

　新東科学（https://www.heidon.co.jp/）は、測定条件の設定からサンプルごとの比較、波形解析、過去の測定データの検索、報告書作成まで、摩擦・摩耗試験に関わる一連の業務を一つにつなぐ統合ソフトウェア「TriboSoft Lab」を初披露した。試験ごとの試験条件・使用試験機、解析範囲・条件、比較結果と報告書などを試験記録として保存。材料、試験方法、測定日などから過去の試験を検索できる。また、各nの値と波形を連動表示、平均だけでなく個別差やばらつきも確認できる。さらに、摩擦変動を距離軸で解析し、波形だけでは気づきにくい周期やピッチを可視化する。世代間の読み込み制限がなく、過去の試験データを読み込み、検索、比較、解析に引き継げる。

新東科学「トライボギアTYPE:14FW」

　パーク・システムズ・ジャパン（https://www.parksystems.com/jp）はイメージングエリプソメーター「Accurion EP4」を披露した。分光エリプソメトリーと光学顕微鏡を1台に統合した、Imaging Spectroscopic Ellipsometryのハイエンドシステムで、ライブellipsometric contrast imagingと、定量解析を行う範囲（regions of interest）を直接選択する機能を備えており、1 µmまでの横方向分解能で、微細構造試料における膜厚および屈折率の空間分解・並列測定を可能にする。

Accurion EP4

　ブルカージャパン（https://www.bruker-nano.jp/page1）は、幅広い試験用途に対応する多機能ナノインデンテーションシステム「Hysitron TI Premier II」を展示した。モジュール設計であり、ニーズに応じて、より専門的な試験方法や、従来フラッグシップモデルのみで対応していた環境制御機能（加熱（800℃）、冷却（‐120℃）、温湿度（75℃、RH75%）でのナノ力学試験が可能）のアップデートが容易に行える。幅広い試験用途に対応する優れた多機能性を有するため、さまざまな試験評価に取り組んでいる日本の技術者・研究者に最適なナノインデンテーションシステムであることをアピールした。

ブルカージャパン「Hysitron TI Premier II」

 

admin 2026年9月7日 (月曜日)

メカニカル・サーフェス・テック2026年8月号：特集「表面改質における試験・計測」8月25日発行！

　表面改質＆表面試験・評価技術の情報誌「メカニカル・サーフェス・テック」の2026年8月号：特集「表面改質における試験・計測」が当社より8月25日に発行される。

　今回の特集では、浴室床の親水性表面改質技術、DLC膜やペロブスカイト太陽電池の膜厚計測、摩擦摩耗試験の受託サービス、再生プラスチック評価における分光測色・ハイパースペクトル計測、摩擦・摩耗試験片の留意点を取り上げる。表面改質の開発、品質管理、量産化、信頼性確保を支える試験・計測技術の動向を紹介する。

特集：表面改質における試験・計測

◇浴室床の長期防汚性・意匠性を実現する親水性表面改質技術・・・TOTO　森井 勇次 氏、畑中 啓司 氏、篠原 賢次 氏に聞く

◇ハイエンド市場で求められるドライコーティングと表面改質層の試験評価技術・・・東研サーモテック　髙橋 顕 氏に聞く

◇顕微分光膜厚計の技術とDLC膜／ペロブスカイト太陽電池の計測評価事例・・・大塚電子　山本 実徳 氏、加藤 丈滋 氏に聞く

◇摩擦摩耗試験の受託サービスの取り組みと展開・・・新東科学　野村 篤史 氏に聞く

◇再生プラスチックの家電製品への水平リサイクルの取り組みと分光測色計／ハイパースペクトルカメラの活用・・・編集部

◇摩擦・摩耗試験における試験片の重要性と留意点・・・東京理科大学　佐々木 信也 氏に聞く

連載

注目技術：第87回 人とくるまのテクノロジー展2026YOKOHAMAに見る表面改質技術・・・出展各社

酒飲み世界紀行：第16回 韓国のお酒編： 爆弾酒と安東焼酎・・・横浜国立大学　梅澤 修

トピックス

SEAJ、半導体・FPD製造装置需要予測を公表、全装置の日本製装置販売高は2028年度に8兆円超えへ

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admin 2026年8月21日 (金曜日)

Rtec-Instruments・國井卓人氏の博士論文公聴会が実施

　Rtec-Instruments日本法人社長で東京理科大学 博士後期課程の國井卓人氏の公聴会（博士論文公開審査会）が7月17日、東京都葛飾区の同大学 葛飾キャンパスで行われた。

　公聴会では國井卓人氏が、「e-Axleにおける耐マイクロピッチング評価試験法に関する研究」と題する博士論文研究の成果について、研究指導教員の佐々木信也教授、酒井健一教授ら審査委員、一般聴衆の前で発表し、その後、質疑応答が行われた。

　論文では、新しい試験機を開発してe-Axleを想定した歯車表面疲労挙動を高速・潤滑・電気要因の観点から段階的に明らかにするという研究の目的から、従来の歯車試験機では難しかったSRR（すべり率）や接触条件の独立制御、潤滑供給状態・高速条件の再現、電気的要因を含めた評価などを可能にする三円筒型ローラーピッチング試験機の開発、e-Axle油潤滑下におけるマイクロピッチング挙動に及ぼすSRRの影響評価、開発した三円筒型ローラーピッチング試験機によるマイクロピッチングの評価、三円筒型ローラーピッチング試験機による電食・マイクロピッチングの複合評価について、結果および考察を報告した。

　e-Axleにおける耐マイクロピッチング評価用試験機を新たに開発することで、既存試験では不可能だったe-Axleにおける高速・高負荷、潤滑方法、電食総合評価を実現、これにより①e-Axle用潤滑油のマイクロピッチング挙動、②潤滑供給条件がマイクロピッチングに及ぼす影響、③DC電源（アノード／カソード）での表面電食、電食／マイクロピッチング複合条件下における損傷モードの変化をとらえることができる、という新規性について訴求した。今後のEV（e-Axle）における研究および評価技術の発展に寄与できる研究成果であることを強調した。 

公聴会で博士論文研究の成果について発表する國井氏

 

admin 2026年8月21日 (金曜日)

ELID研削研究会、第105回ELID研削セミナーを開催

　ELID研削研究会（委員長：大森 整 理化学研究所 主任研究員）は7月17日、東京都板橋区の板橋区立ものづくり研究開発連携センター（MIC-2）でオンサイト参加とオンライン参加からなるハイブリッド形式により、「第105回：超精密加工・ELID研削セミナー」を開催した。

　当日は大森委員長より開会の挨拶・資料説明、活動報告、ELID研削に関わる最新開発状況・国際状況の報告がなされた後、以下のとおり講演がなされた。

特別講演「ELIDを源流とする超精密加工の流れ‼ 理研から広がるものつくり・超精密加工の輪」林 偉民氏（群馬大学）…超精密マイクロファブリケーションやハイブリッド加工プロセスといったこれまでの研究内容の紹介と理研との関わり、さらには群馬大学理工学部の先端加工技術について紹介した後、自転／公転型研磨法の研究や、加工空間の熱流体工学的考察に基づく研削加工の高度化、工業ロボットによるローラーヘミングの研究（ロボットの先端に取り付けたローラーを回転させながら金属板のエッジを押し曲げ、2枚の板を重ね合わせて接合・固定する機械的接合方法）について紹介した。

特別講演を行う林氏

話題講演「乾式電解研磨の最前線‼ オーステナイト系ステンレス鋼の複雑3次元形状に対する乾式電解研磨」木津晃平氏（慶應義塾大学）…オーステナイト系ステンレス鋼SUS316Lは、その耐食性から近年、金属3Dプリンター素材として注目され3次元形状の需要が高まっている。しかしながら機械研磨、エッチング、湿式電解研磨といった3次元形状の従来仕上げ加工法にはいずれも課題が残る。そこで電解粒子中で自転と公転を行うことで研磨する「乾式電解研磨」を用いて、複数の形状がついたSUS316Lの表面仕上げを実施、パルス時間比など各種因子の寸法・表面粗さ・堆積物への影響を調査した。

話題講演を行う木津氏

最新報告「ELID研削による機能性表面創成の基礎研究‼ ELID研削における粗粒砥石による光散乱表面創成の試み」大森 整委員長…ELID研削においてはこれまで、粗粒度のメタルボンド砥石を用いてAlやSUS、Ti材に対し研削痕を意図的に残して光散乱機能を持たせ意匠性を付与する試みがなされ、例えばコンパクトカメラの筐体にエンボス加工されたロゴやトレードネーム表面へ研削痕を付与するなどの実用化・量産化の実績がある。光散乱機能には、反射型のみならず透過型もあり、型材になり得る被削材に対し、粗粒度の砥石を用いて表面創成することが考えられることから、今回、粗粒度の電着砥石を用いて研削痕を付与する試みを行い、加工面性状を確認した結果、Al材に対し粗粒度の電着砥石によりELID研削を実施したところ、研削痕をはっきりと形成できた。また、SUS材に対し粗粒度の電着砥石によりAl材と同様の条件でELID研削を実施したところ、研削痕は形成できるが、Al材に比べ光沢のある表面が得られた。Al材の加工面は光沢は見られず、光散乱機能が期待できる。送りピッチを小さくすると加工面粗さは小さくなる傾向にあり、Al材の加工面にははっきりと研削痕が形成されていることから、樹脂に転写して透過型散乱板の形成も期待される、と総括した。

最新報告を行う大森委員長

　当日はまた、「第2回ELID研削賞」の贈呈式が行われ、群馬大学・林 偉民氏が功労賞を受賞した。

贈呈式のようす：大森委員長（左）と功労賞受賞の林氏（右）

 

admin 2026年8月21日 (金曜日)

メカニカル・サーフェス・テック2026年6月号：特集「金型・工具の表面改質」キーテク特集「熱処理」6月25日発行！

　表面改質＆表面試験・評価技術の情報誌「メカニカル・サーフェス・テック」の2026年6月号：特集「金型・工具の表面改質」キーテク特集「熱処理」が当社より6月25日に発行される。

　今回の特集「金型・工具の表面改質」では、工具用CVD被膜、高密着水素フリーDLC、窒化物系硬質膜、アルミ加工金型向けDLCを取り上げ、低摩擦性、耐凝着性、密着性、じん性、平滑性など、実加工に求められる表面改質技術の動向を紹介する。

　また、キーテク特集「熱処理」では、アクティブスクリーンプラズマ窒化の技術動向と、第5回熱処理コンテストの結果を紹介し、熱処理技術の高度化と現場技術者の工夫に焦点を当てる。

特集：金型・工具の表面改質

◇被削材との凝着現象に着目した工具用CVD被膜・・・三菱マテリアル　奥出 正樹

◇高密着水素フリーDLCコーティング・・・北熱　嶋村 公二

◇窒化物系硬質膜の基礎特性と工具への適用・・・ジェイテクト　鬼頭 佑典

◇アルミ加工金型へのDLCコーティング適用の取り組み・・・DOWAサーモテック　羽深 智

キーテク特集：熱処理

◇アクティブスクリーンプラズマ窒化の技術動向・・・中日本炉工業　田中 隆太郎

◇表面改質試験片の衝撃強度を競う第5回熱処理コンテストの結果が発表・・・編集部

連載

注目技術：第86回 宇宙領域におけるドライコーティングの適用展開・・・東研サーモテック

酒飲み世界紀行：第15回 バーボン編： やっと大人になりました・・・横浜国立大学　梅澤 修

トピックス

日本トライボロジー学会、第71期会長に佐々木信也氏（東京理科大学）が再任

日産自動車、DLC被膜適用の高耐食低摩耗ピストンシール機構で令和8年度文部科学大臣表彰 科学技術賞（開発部門）を受賞

第19回岩木賞の業績募集を開始、表彰費用の賛助も募集

全鍍連、令和8年度通常総会を開催

トライボコーティング技術研究会、令和8年度第一回研究会を開催

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admin 2026年6月23日 (火曜日)

パーカー熱処理工業、SRV受託試験サービスのウェブページを新設

　パーカー熱処理工業はこのほど、潤滑油・グリースや自動車部品の摩擦摩耗試験機のデファクトスタンダードである振動摩擦摩耗試験機「SRV®」の最新機種「SRV®5」を用いた受託試験サービスについて、専用ウェブページ（https://srv-pnk.jp/contracted-testing/）を新設した。

　同社では1980年から日本総代理店としてSRV®の販売を開始。以来、潤滑油・グリース・固体潤滑剤などの潤滑剤向けや自動車部品向けなどに販売を展開、現在までに国内で100台以上の納入実績を持つ。

　同社では長年の販売実績と蓄積した知見をベースに2017年からSRV®の受託サービスを開始しているが、需要の高まりを受けて今回、専用ウェブページを新設した。

　SRV®受託試験サービス専用ウェブページでは、“潤滑剤性能を比較評価したい”、“規格試験を外部委託したい”、“フレッチングを評価したい”、“開発段階で条件設計から相談したい”といったさまざまなユーザーの課題に対して、SRV®を用いた各種試験で対応できることを紹介。

SRV®試験がASTM・DIN・ISOなどに準拠した27種類の国際規格試験に対応していることや、高温試験・低温試験・特殊用途評価への対応が可能なことなどの強みや、オイル・グリースの摩擦摩耗性評価試験評価やベアリング部材のフレッチング試験といった豊富な受託試験事例を紹介しているほか、試験依頼の流れやQ&Aを掲載している。試験条件の相談や見積依頼なども同ウェブページから簡単に行える。

　詳細はSRV®受託試験サービス専用ウェブページ（https://srv-pnk.jp/contracted-testing/）をご覧いただきたい。

　同社は引き続き、SRV®を用いた受託試験サービスを通じて信頼性の高い試験データと分析結果を提供、これによりユーザーの研究開発を支援するとともに、試験機の拡販につなげていく。

kat 2026年6月17日 (水曜日)