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サーフテクノロジー、独自微粒子投射技術で新型コロナウイルス不活性化を確認

4年 1ヶ月 ago
サーフテクノロジー、独自微粒子投射技術で新型コロナウイルス不活性化を確認

 サーフテクノロジーは、独自の微粒子投射処理「マイクロディンプル処理®(MD処理®)」を施した各種の基材について、ISO 21702に則り抗ウイルス性能評価試験を実施した結果、新型コロナウイルスを不活性化する効果が得られることを確認した。

 同社では、原材料を流すためのホッパーや粉体をふるい液体を濾過するための網、商品を搬送するためのフィルムガイドやネットコンベア、金型や麺帯ローラーなど食品製造設備に共通する異物混入や衛生面での微生物対策、フードロス対策の一つとして、独自の微粒子投射処理「マイクロディンプル処理®(MD処理®)」を提案している。

 MD処理は基材表面に微細凹凸(マイクロディンプル)を形成することで、食品用粉体の付着抑制や滑り性向上、洗浄性の向上などに効果を発揮。すでに、この微細凹凸によって大腸菌や黄色ブドウ球菌に対する抗菌性能が付与されることやカビの増殖を抑える効果が付与されることなどが確認されている。

 今回、神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)が、研磨加工を施したステンレス基材(SUS304 #700)、同基材にMD処理を施したもの、同基材にFDA認証取得のダイヤモンドライクカーボン(DLC)コーティングを施したもの、同基材にMD処理を施した上でMD処理の元の凹凸形状を残すような膜厚(200nm程度)でFDA認証取得のDLCコーティングを施したものの4種を対象に、ISO 21702に則って抗ウイルス性能評価試験を実施した。

 その結果について下図で示しているが、24時間後のウイルス感染価(細胞感染性を持つウイルス粒子の数、pfu/cm2)で比較すると、MD処理を施したステンレス基材表面上のウイルス粒子数が、未処理のステンレス基材表面上のウイルス粒子数に比べて93%減少したことが確認できる。また、MD処理後にDLCコーティングを被覆したものについても抑制傾向が認められているため、MD処理による新型コロナウイルス不活性化の効果は基材によらないものであることが示唆されている。
 

新型コロナウイルスへの効果:縦軸は24時間後のウイルス感染価(細胞感染性を持つウイルス粒子の数)を示し、横軸は左から順番にControl(SUS304 #700)、Control+MD処理、Control+FDA認証DLCコーティング、Control+MD処理+FDA認証DLCコーティングを指す

 

 同社研究開発部 研究員の西谷伴子氏は「“抗ウイルス”という文言を使用するには99%の減少率が必要なので、今回の評価試験結果である減少率93%ではMD処理に抗ウイルス性能があると謳うことはできない。引き続き減少率99%を目指して、研究・開発を進めていきたい」と述べている。

 同社・下平英二社長は、「医学博士で新渡戸文化短期大学名誉学長の中原英臣氏が“金属表面やつり革などプラスチック表面で最大48時間も生存するなど、ウイルスはツルツルした表面を好む”と述べているように、ツルツルした表面よりMD処理のザラザラした表面の方が、抗ウイルス効果など様々な効果が期待できる。MD処理はまた、コーティングでもなく薬剤も使用しない、形状による物理的作用のため、薬剤耐性ウイルスができる心配がない安心・安全の手法だ。引き続き研究を進め、食品分野でのHACCP(危害要因分析重要管理点)による衛生管理に寄与できるMD処理の提案、普及を強力に進めていきたい」と語っている。

kat 2021年11月30日 (火曜日)
kat

イグス、ケーブル保護管の拡張モジュールでコスト削減と長寿命化を実現

4年 1ヶ月 ago
イグス、ケーブル保護管の拡張モジュールでコスト削減と長寿命化を実現kat 2021年11日30日(火) in

 イグスは、あらゆる用途のスライド走行で採用されているケーブル保護管「エナジーチェーンE4.1」のアップグレード向けに、新たにスライドシューとローラーチェーンリンクを開発した。

 

スライドシュー(右)、ローラーチェーンリンク(中央)を取り付けたエナジーチェーンE4.1

 

 エナジーチェーンE4.1に後付けが可能なため買い替えの必要がなく、素早い組付けで簡単にアップグレードできる。これにより、摩耗が進みやすい環境や、高速動作や長い走行距離のアプリケーションでも、エネルギー供給システムの寿命を効率的に伸ばすことができる。

 エネルギーを供給するケーブルやホースを安全にガイドするのに適しているイグスのケーブル保護管「エナジーチェーン」は、STSクレーン、自動倉庫、リニアロボットなどに搭載され、長距離を走行している。これらすべての分野で世界中のユーザーから信頼を得ているエナジーチェーンE4.1は、スライド走行の9割の用途で使用できる汎用的なソリューションで、アンダーカット設計を採用しているため高いねじれ剛性を備えているほか、静音性に優れ、高さや幅を自由に選択できる。

 今回、特に摩耗が進展しやすい環境でエナジーチェーンE4.1の寿命を延ばすために開発されたのがスライドシューで、耐摩耗性に優れたイグミッドポリマー製のスライドシューを内周側のチェーンリンクに取り付けることで、エナジーチェーンE4.1を素早く簡単にアップグレードできる。推奨走行速度は1~3m/sで、従来比約2倍の寿命を実現する。

 今回はまた、エナジーチェーンE4.1用に最適化されたローラーチェーンリンクも新たに開発された。ローラーチェーンリンクを使用することで、スライド走行をローラー仕様の「ロールeチェーン」に変更でき、耐久性を高めエナジーチェーンの長寿命化を実現できる。10m/sまでの高速走行や、500mまでの非常に長いスライド走行に適しており、駆動力を最大37%低減しエネルギーの節約に貢献する。

 将来的には、オンライン設計ツールのエナジーチェーン エキスパートにこれらの製品が加わる予定で、イグスではユーザーの使用環境や条件に応じて最適なエナジーチェーンE4.1をガイドチャンネル付きで、または特殊なケースではスライドシューやローラーチェーンリンク付きで提案していく。

kat

JASIS2021開催、表面試験・評価・分析機器などが展示

4年 1ヶ月 ago
JASIS2021開催、表面試験・評価・分析機器などが展示

 日本分析機器工業会と日本科学機器協会は11月8日~10日、千葉市美浜区の幕張メッセ 国際展示場で、分析機器・科学機器の総合展示会「JASIS2021」を開催した。今年は昨年に引き続き、リアル展示会に加えてWeb展示会「JASIS WebExpo®」(11月8日~2022年3月15日)を強化、会場へ行けなかったときでもJASISの特別企画・出展企業コンテンツの一部を見られるように工夫した。リアル展示会は、270社・機関、872小間の出展と「新技術説明会」、「JASISトピックスセミナー」の講演が多数催された。リアル展示会への来場者は8490名(昨年7299名)、新技術説明会の聴講者数は4813名(同5869名)だった。

JASIS2021開催のもよう

 ここでは、リアル展示会における表面試験・評価・分析に関連する主な製品・技術展示について紹介する。

 大塚電子( https://www.otsukael.jp/ )では、最上位のゼータ電位・粒子径・分子量測定システム「ELSZneo」​を展示した。①濃度範囲が0.00001%(0.1ppm)の希薄溶液から40%までの濃厚溶液に対応した粒子径・ゼータ電位測定が可能、②平板セルユニットの改良:新開発した高塩濃度対応コーティングにより、高塩濃度環境下(154mM NaCl溶液:生理食塩水)での測定が可能となり、実際の環境下での生体適合性材料の評価を実現、③前方・側方・後方の3角度で測定・解析をすることで、分離しやすくなり正確な粒子径分布を提供できる、④ゲルの複数箇所にセルを動かしてゲル試料の散乱強度と拡散係数を複数点測定することで、ゲルの網目構造や不均一性の解析が可能、⑤静的光散乱法の活用により、溶液中の粒子濃度(particles/mL)を算出できる、⑥動的光散乱法の活用により、ポリマーやタンパク質などのやわらかい構造体の粘弾性を測定(マイクロレオロジー測定)が可能、などの特徴をアピールした。

大塚電子「ELSZneo」 ​

 協和界面科学( https://www.face-kyowa.co.jp/ )は、主力の接触角計を紹介したほか、自動摩擦摩耗解析装置「TSf-503」を展示した。同装置は不要な力を検出せず、正確な摩擦の波形取得を実現した。標準繰返し測定は最大12回まで往復運動をして静・動摩擦係数測定を行う。また同装置は、往復測定か往路のみの測定かを選択でき、往路測定の場合は天秤を自動でピックアップし原点位置まで復帰する。連続静摩擦測定では、設定した移動速度、距離、回数で連続測定を実施する。さらに、4種類の荷重(100g~1000g)で静・動摩擦係数を測定し、荷重による影響を比較することもできる。また、新しい話題としては横型引張試験機の新オプションとなる高速画像取込システムと標準ステージ全高寸法を超える試料に対応した調整機構付ロードセルの紹介を行った。

協和界面科学「TSf-503」

 新東科学( http://www.heidon.co.jp/ )は、直交バランスアーム方式や測定中にカバー可能な機構を採用したスタンダードモデルの摩擦摩耗試験機「トライボギアTYPE:40」の実機を展示した。摩擦力を測定する荷重変換器を測定子直上に配置し、不要な機構をなくしたことにより、高いレスポンスとセッティングの誤差を排除した。また、試料テーブルの摺動方向をアームに対して直交させことにより、往路復路の荷重変動をなくし耐摩耗性評価の信頼性を大幅に向上させた。さらにY方向ステージを標準装備して13mmストロークするように設計、一度試験が終わった後もサンプルを付け替えることなく別の部分で測定が行える。オプションのトライボソフトを使用するとパソコンから簡単に条件入力、解析、さらに試験操作まで行える。

新東科学「トライボギアTYPE:40」

 東陽テクニカ( https://www.toyo.co.jp/microscopy/ )は、KLA 社製の超高分解能 薄膜機械的特性評価装置「iNano」を紹介した。極低荷重を高精度かつ安定に発生させる分解能3nNのInForce50型超高分解能押込みヘッドを搭載、ナノメートルオーダーの薄膜や樹脂などのソフトマテリアルの薄膜の硬度・ヤング率を測定できる。さらに、動的押込み試験(連続剛性測定法:CSR)による硬度・ヤング率の深さプロファイル測定やナノスケールの動的粘弾性測定、硬度・ヤング率の三次元イメージングなど、多機能な薄膜機械特性評価装置であることをアピールした。自動圧子形状補正機能を装備。ISO14577 Part 1に準拠している。

東陽テクニカ「iNano」

 日本サーマル・コンサルティング( https://therm-info.com/ )は、ナノビア社製のポータブルの3Dプロファイルメーター(ノンコンタクト方式三次元寸法・形状測定システム)「Jr25」を展示した。3Dプロファイルメーターはナノスケールからマクロスケールに至る広範囲領域の寸法計測、表面粗さ(平滑性)、形状、平面そり性、体積、厚さ計測等を短時間で正確に測定するシステム。多種のオプティカルレンズが用意されており、試料や測定範囲によりレンズを交換するだけで容易に多種類の測定が可能になる。フリーサンプルサイズで、高精度オプティカルペンを搭載。

日本サーマル・コンサルティング「Jr25」

 日本電子( https://www.jeol.co.jp/ )は、ショットキー電界放出形電子顕微鏡「JSM-IT800」に追加した、半導体デバイスの観察を得意とする「セミインレンズバージョン (i)/(is)」を紹介した。セミインレンズは、対物レンズ下部に形成される強い磁場レンズにより、電子線を集束し、超高分解能を実現するほか、試料から発生する低エネルギー二次電子を効率よく収集し、その電子を上方インレンズ検出器(UID)で検出。これにより、半導体デバイスの不良解析で必要な、傾斜した試料や断面試料の高分解能観察や分析を行えるほか、電位コントラスト観察においても威力を発揮する。また、対物レンズ上方には上方電子検出器 (UED)を搭載、反射電子像の取得や試料バイアスを併用しての二次電子像の取得が強み。試料から放出された電子は対物レンズ内部のUID filterにより選別され、UED検出器・UID検出器により、複数の情報を1スキャンで取得できる。

日本電子「JSM-IT800」

 パーク・システムズ・ジャパン( https://www.parksystems.co.jp/ )は、人工知能(AI)を搭載した次世代自動原子間力顕微鏡(AFM)「Park FX40」を展示した。ロボティクスと機械学習機能、安全機能、特殊なアドオンとソフトウェアを搭載。プローブ交換、プローブ識別、レーザーアライメント、サンプルの位置調整、サンプルへのチップアプローチ、イメージングの最適化など、スキャンにおけるパラメーターおよび事前準備に関わるすべての設定を自動で行える。スキャン制度と再現性の向上、真のノンコンタクトモードによる長いチップ寿命、正確で用途が広く、かつユーザーフレンドリーの設計と言ったコアテクノロジーを継承・発展。さらに、機械学習の積み重ねでAIによる自動機能の適正化、スキャン前の煩わしい準備の自動化、複数のポイントを目的に応じて自動測定など、自動化AFMの実現によるユーザーの利便性とパフォーマンスを向上させた。

​ パーク・システムズ・ジャパン「Park FX40」

 フィルメトリクス( https://www.filmetricsinc.jp/ )は、世界中で5000台以上の導入実績を誇る非接触分光膜厚測定システム「F20」の実機を展示した。同品は、反射率分光法ををもとに透明もしくは半透明の膜厚・屈折率・消衰係数を1秒程度で簡単に測定できる。機種により異なるが膜厚測定範囲は1nm~250μmとワイドレンジに対応。マルチポイントでのインライン測定にも対応し、外部通信にも対応しているため、PLCやホストコンピューターからの制御も可能となっている。反射防止膜や硬質膜などの光学コーティングやCIGSやアモルファスシリコンなどの薄膜太陽電池、酸化膜や窒化膜などの半導体用途などにおいて豊富な実績があるという。

フィルメトリクス「F20シリーズ」

 ブルカージャパン ナノ表面計測事業部( https://www.bruker-nano.jp/ )は、多機能トライボロジー評価機「UMT TriboLab」を展示した。同試験機はモジュール交換型を採用し、あらゆる速度とトルクに対応。ボールオンディスクなどの回転試験や往復摺動試験、ブロックオンリング試験など45種類以上の規格試験が可能となっている。特許技術の2軸センサーによって荷重・摩擦力をリアルタイムに検出。ノイズレベルがセンサーの荷重範囲の0.02 %と非常に小さいことにより、高分解能な測定を可能とし、荷重レンジに応じて適切なフリクションロードセンサーを選択することで1mN~2000Nの試験荷重を実現できる。加熱は潤滑環境下で400℃、ドライ環境下で1000℃、湿度が5~85%RHに設定できるなど、様々な環境制御が行える。

ブルカージャパン ナノ表面計測事業部「UMT TriboLab」

 堀場製作所( https://www.horiba.com/jpn/ )は、同社のラマン分光装置(ラマン)と島津製作所の高速液体クロマトグラフ(LC)とを融合させた計測機器「LC-Ramanシステム」を披露した。LCは混合試料から計測対象を抽出する「分ける」技術に優れ、対象成分の正確な定量に強みがあり、一方、ラマンは分子構造の違いを判別する「見える」技術に優れ、未知成分の推定に強みがある。両社が強みを持つ二つの技術を高い次元で結合することで、①「くっきり」判別:混合試料の構成成分を明確化②「すっきり」整理/「かんたん」操作:データの一元管理と直感的な操作、③多種多様な計測アプリケーションの展開、などの特徴を有している。

堀場製作所「LC-Ramanシステム」

 リガク( https://japan.rigaku.com/ )は、広角X線散乱測定装置「NANOPIX-WE」を紹介した。NANOPIX-WEは、散乱角2θが3~65°のWAXS測定に最適化されているほか、高強度X線により静的測定だけでなく、温度や外場が制御されたその場環境(in-Situ)での測定や光則寺分割測定が可能。透過二次元広角専用X線散乱測定機であるNANOPIX-WEを用いたin-Situ測定による高分子フィルムの構造評価を提案。高分子フィルム(PETシート)を高速時分割二次元XRDと加熱・延伸ステージを組み合わせて構造を評価。NANOPIX-WEを使用して透過二次元の高速時分割測定(露光時間:1s)を実現した事例を紹介した。

リガク「NANOPIX-WE」

 

admin 2021年11月30日 (火曜日)
admin

ダイベア、超高精度軸受に低NRROシリーズを追加

4年 1ヶ月 ago
ダイベア、超高精度軸受に低NRROシリーズを追加kat 2021年11日30日(火) in in

 ジェイテクトのグループ会社であるダイベアは、NRRO(回転に同期しない振れ)の低減と低昇温を実現した低NRROシリーズを開発し、超高精度軸受「PRECILENCE®」のラインナップに追加した。開発品は、超精密加工機など工作機械の主軸用に適している。本年11月からダイベア和泉工場で量産を開始、2025年に1億円の売上を目指す。

PRECILENCE

 

 近年、工作機械はより高い加工精度や加工効率が求められており、主軸回転の高速化とともに、微細加工機などの超高精度加工領域の機械では加工面の品位が重要視されている。それらを満たすため、主軸用軸受には、加工面の品位に影響するNRROの低減と、高速回転時における主軸の熱変位の抑制について、工作機械のメーカーとユーザーから強いニーズがあり、今回の開発に至ったもの。

 開発品では軸受構成部品の設計を最適化するとともに、構成部品(内輪、外輪、玉、保持器)加工の高精度化を図り、低速から高速回転領域までの広い範囲で低NRROを実現するとともに、外輪昇温を30%低減した。また、dmn(軸受ピッチ円直径(mm)×回転速度(min-1))300万までの対応を可能としている。 

NRROの比較

 

外輪昇温比較

 

 

 加工機の主軸に搭載することでの期待される効果としては、以下が挙げられる。
 
1.工作物に対する工具の刃当りのばらつきが小さくなることにより、高精度での加工が可能なほか、加工面の品位が向上(小径工具を高速回転で使用の場合は大きな効果が期待できる)

2.軸受の低昇温化により主軸の熱変位を抑制し加工精度が向上

3.金型加工においては、加工面の粗さが小さくなるため、加工後の手仕上げ時間短縮が期待できる。

 また、今回の開発品を通じて貢献可能なSDGsの目標としてジェイテクトでは、「9.強靭なインフラを整備し、包摂的で持続可能な産業化を推進するとともに、技術革新の拡大を図る」と「12.持続可能な消費と生産のパターンを確保する」を挙げている。
 

kat

ジェイテクト、軸受寿命を倍増した耐食ステンレス軸受を開発

4年 1ヶ月 ago
ジェイテクト、軸受寿命を倍増した耐食ステンレス軸受を開発kat 2021年11日30日(火) in in

 ジェイテクトは、高機能フィルム製造装置などで使用する耐食ステンレス軸受として、従来品から耐摩耗性を向上させ軸受寿命を約2倍延長させた特殊環境用軸受EXSEV®軸受シリーズ製品「コロガードプロベアリング®-LS」を開発した。これによりユーザーの装置メンテナンス周期の延長に貢献する。

コロガードプロベアリング-LS

 

 高機能フィルム・FPD(液晶、有機EL)メーカーやそれらの製造装置メーカーに提案を進め、1億円/年の販売を目指す。同社四国工場(徳島)および亀山工場、グループ会社のダイベアでの製造を予定している。

 一般的に防錆油の使用できない環境では、錆を防止するためにマルテンサイト系ステンレス軸受が使用されるが、水や溶液など腐食性がより高い環境では析出硬化系ステンレス鋼を用いた軸受が使用される(同社従来品「コロガードプロベアリング®-MD」が該当)。

 しかしながら、析出硬化系ステンレス鋼は通常の軸受用ステンレス鋼と比べ耐食性は高い一方で、硬度が低く耐摩耗性に劣る部分があり、使用条件によってはユーザーにおいて短い周期で軸受交換を実施していた。

 これに対しジェイテクトは、ユーザーの装置メンテナンス周期の延長(交換頻度の低減)に貢献すべく、「コロガードプロベアリング®-LS」を開発したもの。

 開発品の主な特徴と効果は以下のとおり。

1.軌道輪(内、外輪)に高耐食ステンレス鋼を採用することにより、従来品と比べ以下の特徴や効果が期待される

・軸受の寿命が約2倍に向上(摩耗深さは従来品比約75%低減)

・軸受の交換回数削減によりお客様のランニングコストを低減

2.通常のステンレス軸受では対応できない腐食環境には寿命の長い開発品を適用し、開発品でも対応できない一部酸環境には従来品を適用

耐食軸受の性能イメージ

 

 今回の開発品を通じて貢献可能なSDGsの目標として同社は、「9.強靭なインフラを整備し、包摂的で持続可能な産業化を推進するとともに、技術革新の拡大を図る」と「12.持続可能な消費と生産のパターンを確保する」を挙げている。
 

kat

日本表面真空学会、第22回真空に関する国際会議(IVC-22)札幌への協賛募集を開始

4年 1ヶ月 ago
日本表面真空学会、第22回真空に関する国際会議(IVC-22)札幌への協賛募集を開始

 日本表面真空学会(JVSS)は日本学術会議と共催で2022年9月11日~16日の6日間、札幌市の札幌コンベンションセンターで「第22回真空に関する国際会議(The 22nd International Vacuum Congress:IVC-22)」(URL:https://ivc22.org/、実行委員会Chair:東京大学・福谷克之氏)を開催する。 

IVC-22の会場となる札幌コンベンションセンター

 「Focus Topics」、「Vacuum Vision 2030」、「Division Topics」、「Plenary Session」、企業展示会など魅力的なコンテンツを設ける本会議では、スポンサー企業を募集。協賛企業を参加者に向けアピールするプログラムを多数用意している。

 また、併催で「第18回国際固体表面会議(The 18th International Conference on Solid Surfaces:ICSS-18)」、「ナノ科学と工学に関する国際会議2022(The International Conference on Nanoscience+Technology:ICN+T 2022)」、「第11回真空・表面科学アジア・オーストラリア会議(The 11th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia:VASSCAA-11)」、「スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム(International Symposium on Sputtering Plasma Processes:ISSP)」、「走査型プローブ顕微鏡に関する国際コロキュウム(The International Colloquium on Scanning Probe Microscopy:ICSPM)」、「日本表面真空学会学術講演会(The Annual Meeting of JVSS)」が開かれる。

 ここでは、IVC-22 Exhibition Committee Chairの東京電子・黒岩雅英氏に本会議の概要とトピックス、本会議の盛況な活動を支援するためのスポンサーシップパッケージなどについて話を聞いた。

IVCの概要

 本会議IVCは、真空に関する科学・技術の応用の国際連合(International Union for Vacuum Science, Techniques and Applications:IUVSTA)からの委託により、真空関係で世界最大の国際会議として1958 年の第1回以降、 3 年ごとに主催国を変更して開催されている。

 毎回2000人規模の参加があり、IVC-22でも1500人(うち国外:500人)程度の参加と80~100社(海外企業含)の企業展示を予定している。

 日本では過去に京都(1974年)、横浜(1995年)で開催され、次回札幌が3回目の開催と、米国開催(全4回)に次いで多く、日本は真空に関する科学・技術の主要な国として位置づけられている。

 次回IVC-22は、「Focus Topics」、「Vacuum Vision 2030」、「Division Topics」で構成。さらに、ニコン会長・牛田一雄氏など国内外の著名な6人の講演者による「Plenary Session」が設けられている。Oral SessionとPoster Sessionとを合わせて1000件の発表が予定され、活発な議論が見込まれている。

Focus Topics

 Focus Topicsでは以下のとおり、複数の研究ディビジョンに関わるタイムリーな話題が提供される。

・Engineering Biology and Medicine

・Data-driven materials science and process informatics 

・Advanced light spectroscopy)

・Nano-optics

・Low-dimensional Quantum Materials

・Non-Evaporable Getter Coating

・Science and Technologies for SDGs

Division Topics

 また、Division Topicsでは、以下のとおり13の研究ディビジョンに関わるトピックスが提供される。

・Applied Surface Science

・Biointerfaces

・Electronic Materials and Processing

・Nanometer Structures

・Plasma Science and Technologies

・Surface Engineering

・Surface Science

・Thin Film

・Vacuum Science and Technology

・Scanning Probe Microscopy

・ISSP / Surface Engineering

・JVSS Annual Meeting

 

Vacuum Vision 2030

 さらにVacuum Vision 2030では、デジタルトランスフォーメーションとグリーントランスフォーメーションで重要な役割を果たす半導体技術の変革を支える、真空コンポーネントの2030年半導体ロードマップに向けた将来課題などについて、半導体産業に関わるエキスパートが講演する。ここではソニーのほか半導体露光装置メーカー、半導体ファウンドリー、真空ポンプメーカーなどの招待講演と、一般講演の全10講演が予定されている。

 

会議の充実化を支える協賛の募集

 こうした魅力的なコンテンツが用意されたIVC-22のさらなる充実化を図るべく、本会議のExhibition Committeeではスポンサーシップパッケージおよび一般展示への協賛を募集している。

 スポンサーシップパッケージはPlatinum、Gold、Silverのランクを設け、多くの特典を用意している。たとえばPlatinumスポンサーの特典をみると、会期前には公式ホームページ、Web 抄録アプリ、抄録広告掲載が提供され、会期当日にはロゴ掲載としてネームストラップや案内看板、マスクケース、コーヒーブレイク用紙コップ、スポンサーボード(フォトスペース)が、広告としては幕間・CM広告、デジタルサイネージ広告、その他特典として5名の参加招待、展示出展料の割引、商談ルーム使用権などが提供される。

 また、スポンサーシップパッケージとは別に、展示ブースへの出展も募集している。基礎小間は250000円/1小間。

 IVC-22 Exhibition Committee Chairの東京電子・黒岩雅英氏は、「このコロナ禍にあって、本会議の開催を巡っては延期や中止など慎重な議論が様々になされ二転三転四転したが、ようやく開催が決まった。日本での開催は米国開催に次ぐ三度目という開催数となるが、これは、日本が真空関連の科学・技術分野で高いプレゼンスを示していることの裏付けだと思う。真空に関する科学・技術は、半導体をはじめとする産業に必要不可欠なもので、本会議でも真空工学、表面・ナノ科学・分析、薄膜・スパッタ、半導体材料、バイオなど広汎な分野をカバーしている。国内、アジア、欧米諸国の研究者・技術者と交流しつつ、日本の高いプレゼンスを維持しさらに日本の真空工学研究を発展させるための絶好の機会とできるよう、スポンサーシップパッケージ、展示ブースへの出展といった、IVC-22の盛況な開催を支える協賛への協力を是非ともお願いしたい」と述べている。
 

スポンサーシップパッケージの概要

 

前回スウェーデン大会(IVC-21)の展示会の様子

 

<申込み・問い合わせ>

IVC-22 運営事務局
〒060-0002 札幌市中央区北二条西4-1 北海道ビル
株式会社コンベンションリンケージ内
TEL:011-272-2151 FAX:011-272-2152
E-mail:ivc2022@c-linkage.co.jp
URL:https://ivc22.org/

kat 2021年11月30日 (火曜日)
kat