NTN、FPD基板などの配線修正で線幅10μm以下の微細パターン描写が可能な装置を開発

微細パターン描画装置(装置主要部)　NTN（ http://www.ntn.co.jp ）は、フラットパネルディスプレイ（FPD）基板の配線修正や露光用フォトマスク基板のパターン修正などに向けて線幅10μm以下の微細なパターンを描画することが可能な「微細パターン描画装置」を開発した。

　同装置は、基板に非接触で微細なパターンを描画できる静電インクジェット方式を採用した。静電インクジェット方式は、静電吸引力によって微細なノズルからインクを吐出する塗布方式で、塗布針方式に不向きだった線幅10μm以下の描画を可能にした。また、線幅10μm以下の修正で業界標準とされていた装置と比べて、低価格で簡単な構成を実現するとともに、描画速度も向上した。

　機能面では、ノズルの着脱が容易なワンタッチ着脱機構、ノズルと基板との衝突回避機能、モニタ画面上でのマウス操作による描画指示機能、さらに描画後のインクをレーザで瞬時に固める局部焼成機能など、新たに開発した技術を搭載し、操作性・保守性に優れた生産性の高い装置を実現した。

　同社では、同装置を世界で需要が拡大しているスマートフォンやタブレット端末、有機EL基板の生産性向上に貢献する商品として、グローバルに市場展開していく。