プラナリゼーションCMP委員会、100回突破・16周年記念特別研究会を開催

　精密工学会「プラナリゼーションＣＭＰとその応用技術専門委員会」（プラナリゼーションCMP委員会、 http://www.planarization-cmp.org ）は9月10日、東京・根津の東京大学・武田先端知ビルで「100回突破・16周年記念特別研究会」を開催、約150名が参加した。

　当日はまず土肥敏郎委員長（写真、九州大学）が「本年度で定例研究会が100回を突破するのを節目として、これまでの経過をまとめ、将来に向け役立てようと本会を企画した。これを機に研究会活動を活性化するとともに、若手の育成にも努めていきたい」と挨拶した後、佐々木 元氏（NEC 特別顧問）が「CMPは半導体製造で極めて重要な基本をなす技術。装置、加工工具、材料、デバイスのメーカーが集まったプラナリゼーションCMP委員会には、今後もそのコラボレーションによりわが国の技術を牽引する役割を担ってほしい」と祝辞を述べ、以下の通り講演が行われた

基調講演
（1）「日本産業の未来と中国半導体の現状と課題」川西　剛氏（TEKコンサルティング・中国SMICＳ社外役員）

（2）「A review of recent advances in the polishing of silicon dioxide and nitride and polysilicon films」S.V.Babu氏 (Clarkson university)

（3）「日本半導体産業を元気にする将来のために」坂本幸雄氏（エルピーダメモリ）（株）代表取締役社長 兼 CEO

記念シンポジウム―プラナリゼーションCMP の来し方行く末について語る―
（1）「これまでのLSIデバイスと平坦化ＣＭＰ技術」青木利一郎氏（フジミインコーポレーテッド）

（2）「Consumable Considerations: Present and Future」Jam Sorooshian氏 (Intel)

（3）「三次元実装から見たこれからの超LSIデバイスの行方」大場隆之氏（東京大学）

研究会活動報告
（1）「本研究会の立ち上げの歴史」土肥俊郎氏（九州大学）

（2）「15 周年にあたり」木下正治氏(ニッタ･ハース)

（3）「国際会議レビュー」近藤誠一氏(ルネサスエレクトロニクス)

（4）「プロシーディングスから見たトピックス」武野泰彦氏（グローバルネット）

特報講演
（1）「パラダイムシフト20」辻村 学氏（荏原製作所）

記念講演
（1）「プラナリCMP研究会に期待する」 中川威雄氏（ファインテック）