2009年7月27日(月曜日)
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理化学研究所基幹研究所は、埼玉県和光市の和光研究所で7月16日~17日、第1回国際表面界面創成技術会議(ICSIF: International Conference on Surface and Interface Fabrication Technologies)を開催した。
本国際会議は、大森素形材工学研究室(大森 整主任研究員)が企画したもの。機械加工プロセス中にツールとワークとの間で生じるトライボケミカル反応は、加工後のワーク表面の機械的・化学的特性に大きな影響を与える。そこで本国際会議では、表面加工、表面処理、表面改質など多岐に亘る研究分野から、トライボファブリケーションに関する最新の状況について、国内外の第一線の研究者らが講演した。


7月17日には、 [Micro Nano-fabrication Science and Technology]と題して、ポストSi基板であるSiC系パワーデバイス基板のCMP(化学的機械的プラナリゼーション)や、スチール・アロイ旋削加工におけるダイヤモンド工具のプラズマ窒化処理による摩耗低減などについての講演がなされた。